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光刻设备和操作光刻设备的方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201010501461.9
申请日：
2010-09-30
公开(公告)号：
CN102033435B
公开(公告)日：
2011-04-27
发明(设计)人：
K·T·霍尔柯德 R·F·德格拉夫 H·詹森 M·H·A·里德尔斯 A·J·范德奈特 P·J·克拉莫尔 A·昆吉皮尔 A·H·J·A·马坦斯 S·范德格拉夫 A·V·帕迪瑞
申请人：
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
王波波
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2014-06-04 授权 授权
2011-06-15 实质审查的生效 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101079150511 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010105014619 申请日:20100930
2011-04-27 公开 公开
共 50 条
[1]
光刻设备和操作光刻设备的方法 [P]. 
金原淳一 ;
H·巴特勒 ;
P·C·H·德威特 ;
E·A·F·范德帕斯奇 .
中国专利 :CN112965341A ,2021-06-15
[2]
光刻设备和操作光刻设备的方法 [P]. 
U.丁格 ;
M.霍尔兹 ;
U.比尔 .
中国专利 :CN107850851B ,2018-03-27
[3]
光刻设备和操作光刻设备的方法 [P]. 
金原淳一 ;
H·巴特勒 ;
P·C·H·德威特 ;
E·A·F·范德帕斯奇 .
:CN112965341B ,2024-06-28
[4]
光刻设备和操作光刻设备的方法 [P]. 
金原淳一 ;
H·巴特勒 ;
P·C·H·德威特 ;
E·A·F·范德帕斯奇 .
中国专利 :CN108475025A ,2018-08-31
[5]
衬底台、光刻设备和操作光刻设备的方法 [P]. 
D·D·J·A·范索姆恩 ;
C·H·M·伯尔蒂斯 ;
H·S·布登贝格 ;
G·L·加托比焦 ;
J·C·P·梅尔曼 ;
G·纳基布奥格卢 ;
T·W·波莱 ;
W·T·M·斯托尔斯 ;
Y·J·G·范德费韦 ;
J·P·范利斯豪特 ;
J·A·维埃拉萨拉斯 ;
A·N·兹德拉夫科夫 .
中国专利 :CN113253577A ,2021-08-13
[6]
衬底台、光刻设备和操作光刻设备的方法 [P]. 
D·D·J·A·范索姆恩 ;
C·H·M·伯尔蒂斯 ;
H·S·布登贝格 ;
G·L·加托比焦 ;
J·C·P·梅尔曼 ;
G·纳基布奥格卢 ;
T·W·波莱 ;
W·T·M·斯托尔斯 ;
Y·J·G·范德费韦 ;
J·P·范利斯豪特 ;
J·A·维埃拉萨拉斯 ;
A·N·兹德拉夫科夫 .
中国专利 :CN108604067A ,2018-09-28
[7]
光刻设备和光刻设备清洗方法 [P]. 
M·K·斯塔文加 ;
R·J·布鲁尔斯 ;
H·詹森 ;
M·H·A·利恩德斯 ;
P·F·万滕 ;
J·W·J·L·库伊帕斯 ;
R·G·M·比伦 ;
A·M·C·P·德琼格 .
中国专利 :CN102081310A ,2011-06-01
[8]
光刻设备和光刻设备清洗方法 [P]. 
M·K·斯塔文加 ;
R·J·布鲁尔斯 ;
H·詹森 ;
M·H·A·利恩德斯 ;
P·F·万滕 ;
J·W·J·L·库伊帕斯 ;
R·G·M·比伦 ;
A·M·C·P·德琼格 .
中国专利 :CN101078887B ,2007-11-28
[9]
光刻设备和运行光刻设备的方法 [P]. 
R·D·沃森 ;
Y·J·L·M·凡达麦乐恩 ;
J·H·W·雅各布斯 ;
H·詹森 ;
M·H·A·里恩德尔斯 ;
J·J·S·M·梅坦斯 ;
P·P·斯汀贾尔特 ;
A·M·C·P·德琼 ;
J·M·W·范德温克尔 ;
J·P·达派兹赛纳 ;
M·M·J·范德李 ;
H·M·D·范里尔 ;
G·塔纳撒 .
中国专利 :CN101571677A ,2009-11-04
[10]
光刻设备和制造光刻设备的方法 [P]. 
G·彼得斯 ;
T·W·波莱 ;
J·J·M·巴塞曼斯 ;
W·J·博曼 ;
T·M·默德曼 ;
C·M·诺普斯 ;
B·斯米特斯 ;
K·斯蒂芬斯 ;
R·范德哈姆 .
中国专利 :CN106662822A ,2017-05-10
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