一种光刻胶剥离液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310561003.8

申请日：

2013-11-12

公开(公告)号：

CN104635438B

公开(公告)日：

2015-05-20

发明(设计)人：

刘兵何春阳孙广胜黄达辉

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

北京大成律师事务所 11352

代理人：

李佳铭

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-07-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101671279890 IPC(主分类):G03F 7/42 专利申请号:2013105610038 申请日:20131112
2015-05-20	公开	公开
2020-06-09	授权	授权
2017-12-29	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):G03F 7/42 变更事项:申请人变更前:安集微电子科技（上海）有限公司变更后:安集微电子科技（上海）股份有限公司变更事项:地址变更前:201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层变更后:201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层

共 50 条

[1]

一种光刻胶剥离液及其应用 [P].

何春阳 ;

刘兵 ;

孙广胜 ;

黄达辉 .

中国专利 :CN104635439A ,2015-05-20

[2]

一种金属低刻蚀光刻胶剥离液 [P].

刘江华 ;

刘兵 ;

彭洪修 .

中国专利 :CN105022237A ,2015-11-04

[3]

一种金属低刻蚀的光刻胶剥离液及其应用 [P].

刘江华 ;

刘兵 ;

彭洪修 .

中国专利 :CN104570628B ,2015-04-29

[4]

一种光刻胶剥离液 [P].

何国锐 ;

殷健成 .

中国专利 :CN102012645A ,2011-04-13

[5]

一种光刻胶剥离液 [P].

刘江华 .

中国专利 :CN107085357A ,2017-08-22

[6]

一种正性光刻胶剥离液组合物 [P].

李泰亨 ;

申阳 ;

高峰 ;

苗发虎 ;

白晓鹏 .

中国专利 :CN113820927B ,2024-08-13

[7]

一种正性光刻胶剥离液组合物 [P].

李泰亨 ;

申阳 ;

高峰 ;

苗发虎 ;

白晓鹏 .

中国专利 :CN113820927A ,2021-12-21

[8]

光刻胶剥离液 [P].

侯军 ;

吕冬 .

中国专利 :CN101295144A ,2008-10-29

[9]

一种酸性光刻胶剥离液 [P].

刘江华 ;

孙翠侠 ;

贾亚军 ;

潘阳 .

中国专利 :CN108803262A ,2018-11-13

[10]

一种水性光刻胶剥离液 [P].

戈士勇 .

中国专利 :CN103676504A ,2014-03-26

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