复合多模式等离子体表面处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710144856.6

申请日：

2007-12-19

公开(公告)号：

CN101187004A

公开(公告)日：

2008-05-28

发明(设计)人：

田修波杨士勤

申请人：

申请人地址：

150001黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

IPC主分类号：

C23C1400

IPC分类号：

C23C1435 C23C1448

代理机构：

哈尔滨市松花江专利商标事务所

代理人：

岳泉清

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-05-28	公开	公开
2010-01-27	授权	授权
2013-06-19	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101619023744 IPC(主分类):C23C 14/00 专利号:ZL2007101448566 变更事项:专利权人变更前权利人:哈尔滨工业大学变更后权利人:辽宁北宇真空科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号变更后权利人:110045 辽宁省沈阳市大东区生产路5-2-5号登记生效日:20130531
2008-07-23	实质审查的生效	实质审查的生效
2018-12-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/00 申请日:20071219 授权公告日:20100127 终止日期:20171219

共 50 条

[1]

复合等离子体表面处理装置 [P].

田修波 ;

崔江涛 ;

杨士勤 .

中国专利 :CN1603466A ,2005-04-06

[2]

复合式等离子体表面处理装置 [P].

温贻芳 ;

丁琳 ;

王红卫 .

中国专利 :CN202816866U ,2013-03-20

[3]

等离子体表面处理装置 [P].

吴海英 .

中国专利 :CN202519329U ,2012-11-07

[4]

等离子体表面处理方法及装置 [P].

吴海英 .

中国专利 :CN102560439A ,2012-07-11

[5]

等离子体表面清洗装置 [P].

陈彩刚 ;

夏芃 ;

施松林 ;

熊军 ;

刘古岩 .

中国专利 :CN101402095A ,2009-04-08

[6]

低温等离子体表面处理装置 [P].

李昇勋 ;

金度根 .

中国专利 :CN210110703U ,2020-02-21

[7]

等离子体表面处理设备 [P].

万良淏 ;

徐龙 ;

万京林 .

中国专利 :CN211238156U ,2020-08-11

[8]

射频多电容耦合等离子体表面处理设备 [P].

王守国 .

中国专利 :CN200957197Y ,2007-10-10

[9]

射频多电容耦合等离子体表面处理设备 [P].

王守国 .

中国专利 :CN1981876A ,2007-06-20

[10]

一种等离子体表面处理装置 [P].

沈晓辉 ;

李爱丽 ;

沈晓莹 ;

李龙龙 .

中国专利 :CN213426549U ,2021-06-11

← 1 2 3 4 5 →