一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201821741308.1

申请日：

2018-10-26

公开(公告)号：

CN211005588U

公开(公告)日：

2020-07-14

发明(设计)人：

崔木岚

申请人：

申请人地址：

056800 河北省邯郸市魏县经济开发区创业大街南段路东

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1456

代理机构：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-14	授权	授权

共 50 条

[1]

一种基于磁控共同溅射技术的镀膜系统 [P].

马丁·森斯 ;

巫仕才 ;

赖纳·霍夫曼 ;

眭凌杰 ;

孙伟明 ;

姜其伟 ;

杨兴磊 .

中国专利 :CN207596950U ,2018-07-10

[2]

磁控真空镀膜机 [P].

吴炳照 .

中国专利 :CN210886201U ,2020-06-30

[3]

一种磁控溅射真空镀膜装置 [P].

郑亮 ;

李鸿飞 .

中国专利 :CN212505045U ,2021-02-09

[4]

一种用于真空镀膜的螺杆传送装置 [P].

宋振纶 ;

胡方勤 ;

丁雪峰 ;

杨丽景 ;

郑必长 ;

张青科 ;

姜建军 .

中国专利 :CN108085647A ,2018-05-29

[5]

一种溅射距离可调的磁控溅射真空镀膜装置 [P].

娄国明 ;

来华杭 ;

麻春雷 ;

江嘉 ;

李赢 .

中国专利 :CN209669342U ,2019-11-22

[6]

一种溅射距离可调的磁控溅射真空镀膜装置 [P].

舒本剑 .

中国专利 :CN216947169U ,2022-07-12

[7]

一种磁控真空镀膜设备 [P].

王毅 .

中国专利 :CN215163080U ,2021-12-14

[8]

磁控溅射真空镀膜装置 [P].

孙桂红 ;

陈立 ;

梁红 ;

祝海生 ;

李俊杰 ;

李新栓 ;

寇立 ;

薛闯 ;

桂丹 ;

刘柏桢 ;

黄乐 ;

黄国兴 .

中国专利 :CN117845176A ,2024-04-09

[9]

一种镀膜均匀的真空镀膜装置 [P].

魏浩 ;

魏荡 .

中国专利 :CN221608172U ,2024-08-27

[10]

一种真空镀膜装置 [P].

马淑莹 ;

卢鹏 ;

张波 ;

李章建 ;

王明久 ;

陈建飞 ;

邢涛 .

中国专利 :CN222878057U ,2025-05-16

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