辐射成像设备、辐射成像系统和制造辐射成像设备的方法

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专利类型
发明
申请号
CN201210005600.8
申请日
2012-01-10
公开(公告)号
CN102608647B
公开(公告)日
2012-07-25
发明(设计)人
泽田觉 井上正人 竹田慎市 石井孝昌 武井大希 秋山正喜
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
G01T120
IPC分类号
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
欧阳帆
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
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