变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780064546.5

申请日：

2017-10-16

公开(公告)号：

CN109844603A

公开(公告)日：

2019-06-04

发明(设计)人：

伊藤智希

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B1516

IPC分类号：

G02B1318

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

季莹;方应星

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-10	授权	授权
2019-06-04	公开	公开
2019-06-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 15/16 申请日:20171016

共 50 条

[1]

变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法 [P].

内田健介 ;

小滨昭彦 ;

横井规和 ;

山本浩史 ;

松尾拓 .

中国专利 :CN107209351A ,2017-09-26

[2]

变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法 [P].

梅田武 .

中国专利 :CN111095071B ,2020-05-01

[3]

变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN106687848A ,2017-05-17

[4]

变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法 [P].

内田健介 ;

小滨昭彦 ;

山本浩史 ;

松尾拓 .

中国专利 :CN107209350A ,2017-09-26

[5]

变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法 [P].

梅田武 .

中国专利 :CN111095070B ,2020-05-01

[6]

变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN107076968A ,2017-08-18

[7]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

町田幸介 ;

铃木刚司 ;

上原健 .

中国专利 :CN107850762B ,2018-03-27

[8]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

伊藤智希 .

中国专利 :CN107076969A ,2017-08-18

[9]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

伊藤智希 .

中国专利 :CN114895444A ,2022-08-12

[10]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

山本浩史 ;

松尾拓 ;

小滨昭彦 ;

内田健介 .

中国专利 :CN107209349A ,2017-09-26

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