用于产生x射线辐射的方法和系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780026317.0

申请日：

2007-05-08

公开(公告)号：

CN101490790B

公开(公告)日：

2009-07-22

发明(设计)人：

汉斯·M·赫茨迈克尔·奥滕达尔托米·图希玛

申请人：

申请人地址：

瑞典斯托克松德

IPC主分类号：

H01J3508

IPC分类号：

H05G200

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

张波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-09-16	实质审查的生效	实质审查的生效
2019-10-18	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H01J 35/08 登记生效日:20190924 变更事项:专利权人变更前权利人:杰特克公司变更后权利人:伊克斯勒姆股份公司变更事项:地址变更前权利人:瑞典斯托克松德变更后权利人:瑞典希斯塔
2009-07-22	公开	公开
2012-05-09	授权	授权

共 50 条

[1]

X射线辐射源和用于产生X射线辐射的方法 [P].

O.海德 ;

T.休格斯 ;

J.西尔特尔 .

中国专利 :CN104350572B ,2015-02-11

[2]

X射线源以及用于产生X射线辐射的方法 [P].

比约恩·汉森 ;

波尔·塔克曼 ;

王育立 ;

田中志穂 .

中国专利 :CN111542906A ,2020-08-14

[3]

用于产生X射线辐射的装置和方法 [P].

F·维冈德 .

中国专利 :CN103717261B ,2014-04-09

[4]

用于产生X射线辐射的方法和设备 [P].

F·维冈德 .

中国专利 :CN103703869A ,2014-04-02

[5]

产生X射线辐射的靶，X射线发射器和产生X射线辐射的方法 [P].

马文·莫勒 ;

斯文·米勒 ;

马丁·科施米德尔 ;

斯特凡·威林 ;

本诺·齐利亚克斯 .

中国专利 :CN110783160B ,2020-02-11

[6]

X射线辐射源及其应用和用于产生X射线辐射的方法 [P].

O.海德 ;

T.休格斯 ;

J.西尔特尔 .

中国专利 :CN104364876B ,2015-02-18

[7]

X射线辐射源及其应用和用于产生X射线辐射的方法 [P].

O.海德 ;

T.休格斯 ;

J.西尔特尔 .

中国专利 :CN104350573A ,2015-02-11

[8]

X射线源和用于控制X射线辐射的方法 [P].

卡尔曼·费什曼 ;

布莱恩·帕特里克·威尔弗莱 ;

克里斯托弗·W·埃勒诺 ;

唐纳德·奥尔加多 ;

顾纯元 ;

托比亚斯·芬克 ;

佩特·瓦塔霍夫 ;

克里斯托弗·R·米切尔 .

中国专利 :CN110382047B ,2019-10-25

[9]

用于产生高能量X射线辐射的X射线设备 [P].

M·科施米德尔 ;

M·默勒 ;

S·米勒 ;

S·维林 .

中国专利 :CN108696977B ,2018-10-23

[10]

用于X射线产生的系统和方法 [P].

B·L·劳伦斯 ;

R·J·菲尔金斯 ;

P·W·洛兰 .

中国专利 :CN1678163B ,2005-10-05

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