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一种硅片抛光装置

被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201020261767.7
申请日：
2010-07-12
公开(公告)号：
CN201711851U
公开(公告)日：
2011-01-19
发明(设计)人：
库黎明 闫志瑞 索思卓 鲁进军 常青
申请人：
申请人地址：
100088 北京市新街口外大街2号
IPC主分类号：
B24B2900
IPC分类号：
B24B5702
代理机构：
北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100
代理人：
郭佩兰
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2011-01-19 授权 授权
2012-03-14 专利申请权、专利权的转移 专利权的转移 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101296324781 IPC(主分类):B24B 29/00 专利号:ZL2010202617677 变更事项:专利权人 变更前权利人:北京有色金属研究总院 变更后权利人:有研半导体材料股份有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:100088 北京市新街口外大街2号 变更后权利人:100088 北京市新街口外大街2号 变更事项:共同专利权人 变更前权利人:有研半导体材料股份有限公司 变更后权利人:无 登记生效日:20120121
2014-06-25 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101702270978 IPC(主分类):B24B 29/00 专利号:ZL2010202617677 变更事项:专利权人 变更前:有研半导体材料股份有限公司 变更后:有研新材料股份有限公司 变更事项:地址 变更前:100088 北京市新街口外大街2号 变更后:100088 北京市新街口外大街2号
2015-07-01 专利申请权、专利权的转移 专利权的转移 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101717141070 IPC(主分类):B24B 29/00 专利号:ZL2010202617677 变更事项:专利权人 变更前权利人:有研新材料股份有限公司 变更后权利人:有研半导体材料有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:100088 北京市新街口外大街2号 变更后权利人:101300 北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧 登记生效日:20150611
2020-08-04 专利权的终止 专利权有效期届满 IPC(主分类):B24B 29/00 申请日:20100712 授权公告日:20110119
共 50 条
[1]
一种大直径硅片抛光装置 [P]. 
库黎明 ;
闫志瑞 ;
索思卓 ;
鲁进军 ;
常青 .
中国专利 :CN201711850U ,2011-01-19
[2]
一种硅片抛光装置 [P]. 
刘宜森 ;
张硕东 ;
张江涛 ;
许普增 ;
曹会倩 ;
王帅 ;
谭永麟 ;
孙晨光 ;
王彦君 .
中国专利 :CN218194447U ,2023-01-03
[3]
一种硅片抛光工艺 [P]. 
吴鹏飞 ;
成子恒 ;
张超仁 ;
黄春峰 ;
张强 .
中国专利 :CN120480672A ,2025-08-15
[4]
一种硅片抛光装置 [P]. 
孙立强 ;
黄展鹏 ;
曹红亮 ;
任军刚 ;
张宏伟 ;
杨轩 ;
严萍萍 ;
张博 .
中国专利 :CN220548022U ,2024-03-01
[5]
一种硅片抛光装置及采用该装置的抛光方法 [P]. 
刘宜森 ;
张硕东 ;
张江涛 ;
许普增 ;
曹会倩 ;
王帅 ;
谭永麟 ;
孙晨光 ;
王彦君 .
中国专利 :CN115415912A ,2022-12-02
[6]
一种硅片的抛光方法 [P]. 
沈思情 ;
山田宪治 ;
刘浦锋 ;
宋洪伟 ;
陈猛 .
中国专利 :CN105252406A ,2016-01-20
[7]
一种硅片边缘抛光装置 [P]. 
李炜 ;
王看看 .
中国专利 :CN217344994U ,2022-09-02
[8]
一种硅片边缘抛光装置 [P]. 
聂阳 .
中国专利 :CN216542412U ,2022-05-17
[9]
一种硅片加工用抛光装置 [P]. 
邵永杰 ;
刘杰 ;
郑鹏伟 .
中国专利 :CN220575550U ,2024-03-12
[10]
一种硅片抛光垫清洗装置 [P]. 
祝斌 ;
王彦君 ;
武卫 ;
刘建伟 ;
刘园 ;
刘姣龙 ;
裴坤羽 ;
孙晨光 ;
由佰玲 ;
谢艳 ;
杨春雪 ;
刘秒 ;
常雪岩 ;
吕莹 ;
徐荣清 .
中国专利 :CN211681596U ,2020-10-16
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