一种基于光散射的晶圆表面颗粒缺陷的散射场计算方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911165226.6
申请日
2019-11-25
公开(公告)号
CN110990754A
公开(公告)日
2020-04-10
发明(设计)人
廖程 许爽 李公法 刘超 马如意 廖尚春
申请人
申请人地址
430081 湖北省武汉市青山区和平大道947号
IPC主分类号
G06F1710
IPC分类号
代理机构
武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222
代理人
魏波
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种基于光散射的晶圆表面颗粒缺陷的散射场计算方法 [P]. 
廖程 ;
许爽 ;
李公法 ;
刘超 ;
马如意 ;
廖尚春 .
中国专利 :CN110990754B ,2024-03-22
[2]
一种电大尺寸散射体散射场计算方法 [P]. 
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[3]
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孟祥羽 ;
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[4]
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孙景睿 ;
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张柱年 .
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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李冰 ;
李尧尧 ;
郑建东 .
中国专利 :CN120974564A ,2025-11-18
[10]
一种基于像素化投影的物理光学散射场计算方法 [P]. 
李冰 ;
李尧尧 ;
郑建东 .
中国专利 :CN120974564B ,2025-12-26