光刻曝光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310671767.2

申请日：

2013-12-10

公开(公告)号：

CN104698768A

公开(公告)日：

2015-06-10

发明(设计)人：

刘国淦

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-02-01	授权	授权
2015-06-10	公开	公开
2015-07-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101616041992 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013106717672 申请日:20131210
2017-08-15	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101757199585 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2013106717672 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区张东路1525号变更后:201203 上海市浦东新区张东路1525号

共 50 条

[1]

曝光系统及光刻机 [P].

陈冠楠 ;

梅文辉 .

中国专利 :CN115963701B ,2025-10-14

[2]

曝光系统及光刻机 [P].

陈冠楠 ;

梅文辉 .

中国专利 :CN216210473U ,2022-04-05

[3]

光刻曝光系统 [P].

陈鑫封 ;

张汉龙 ;

陈立锐 ;

刘柏村 .

中国专利 :CN109814340A ,2019-05-28

[4]

投影曝光系统 [P].

朱开星 ;

华成 ;

易文涛 ;

朱菁 ;

杜昆 .

中国专利 :CN119937254A ,2025-05-06

[5]

用于光刻曝光系统的光源布置和光刻曝光系统 [P].

保罗·凯撒 .

中国专利 :CN107621755A ,2018-01-23

[6]

曝光系统、光刻机及曝光方法 [P].

侯宝路 ;

周畅 .

中国专利 :CN114384764A ,2022-04-22

[7]

一种曝光系统、曝光方法和光刻机 [P].

郭银章 .

中国专利 :CN110568727B ,2019-12-13

[8]

无掩模曝光系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN222506743U ,2025-02-18

[9]

光刻机曝光系统 [P].

胡钰 .

中国专利 :CN201194068Y ,2009-02-11

[10]

光刻机曝光系统 [P].

郭党委 ;

胡雅文 ;

吴明仓 .

中国专利 :CN215895217U ,2022-02-22

← 1 2 3 4 5 →