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变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201780061831.1
申请日：
2017-10-05
公开(公告)号：
CN109791273A
公开(公告)日：
2019-05-21
发明(设计)人：
梅田武
伊藤智希
芝山敦史
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
G02B1520
IPC分类号：
G02B1318
代理机构：
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人：
季莹;方应星
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-11-09 | 授权 | 授权 |
| 2019-05-21 | 公开 | 公开 |
| 2019-06-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 15/20 申请日:20171005 |