导电膜的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN92113361.8

申请日：

1992-11-25

公开(公告)号：

CN1073296A

公开(公告)日：

1993-06-16

发明(设计)人：

赵胜衍

申请人：

申请人地址：

韩国汉城

IPC主分类号：

H01J920

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利代理部

代理人：

范本国

法律状态：

实质审查请求的生效

国省代码：

引用

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1994-06-15	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
1994-06-22	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
1993-06-16	公开	公开
1999-08-11	专利申请的视为撤回	专利申请的视为撤回

共 50 条

[1]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN102124529B ,2011-07-13

[2]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN102789131A ,2012-11-21

[3]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN103728794B ,2014-04-16

[4]

感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板 [P].

山崎宏 .

中国专利 :CN104282360A ,2015-01-14

[5]

透明导电膜的形成方法 [P].

高桥明久 ;

石桥晓 ;

杉浦功 ;

高泽悟 .

中国专利 :CN101680079B ,2010-03-24

[6]

透明导电膜的形成方法 [P].

辻稔夫 ;

伊藤博人 ;

清村贵利 .

中国专利 :CN1312319C ,2003-06-11

[7]

透明导电膜的形成方法 [P].

浮岛祯之 ;

竹井日出夫 ;

石桥晓 ;

厚木勉 ;

小田正明 ;

山口浩史 .

中国专利 :CN100449652C ,2006-01-18

[8]

导电图案的形成方法、导电膜、导电图案及透明导电膜 [P].

郑光春 ;

柳志勋 ;

李仁淑 ;

成俊基 ;

韩大尚 .

中国专利 :CN104919572B ,2015-09-16

[9]

感光性导电薄膜、导电膜的形成方法和导电图案的形成方法 [P].

山崎宏 ;

五十岚由三 .

中国专利 :CN102859612A ,2013-01-02

[10]

ITO导电膜形成用涂料及ITO导电膜的形成方法 [P].

米泽岳洋 ;

山崎和彦 ;

竹之下爱 .

中国专利 :CN104017395B ,2014-09-03

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