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投影光学系统以及投影装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810335281.4
申请日
:
2018-04-16
公开(公告)号
:
CN108732725A
公开(公告)日
:
2018-11-02
发明(设计)人
:
增井淳雄
井上和彦
松浦农
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
G02B1316
IPC分类号
:
G02B15177
H04N574
代理机构
:
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
:
孙蕾
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-11-27
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 13/16 申请日:20180416
2021-01-15
授权
授权
2018-11-02
公开
公开
共 50 条
[1]
投影光学系统以及投影装置
[P].
增井淳雄
论文数:
0
引用数:
0
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0
增井淳雄
;
井上和彦
论文数:
0
引用数:
0
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0
井上和彦
;
松浦农
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松浦农
.
中国专利
:CN112859300B
,2021-05-28
[2]
投影光学系统以及图像投影装置
[P].
宫健二
论文数:
0
引用数:
0
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0
宫健二
.
中国专利
:CN114509908A
,2022-05-17
[3]
投影光学系统以及图像投影装置
[P].
宫健二
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
理光工业解决方案有限公司
理光工业解决方案有限公司
宫健二
.
日本专利
:CN114355713B
,2024-06-18
[4]
投影光学系统以及图像投影装置
[P].
石龟贵幸
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社理光
株式会社理光
石龟贵幸
.
日本专利
:CN115032851B
,2025-02-07
[5]
投影光学系统以及图像投影装置
[P].
宫健二
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
理光工业解决方案有限公司
理光工业解决方案有限公司
宫健二
.
日本专利
:CN114509908B
,2024-08-20
[6]
投影光学系统以及图像投影装置
[P].
高桥达也
论文数:
0
引用数:
0
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0
高桥达也
;
藤田和弘
论文数:
0
引用数:
0
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0
藤田和弘
;
安部一成
论文数:
0
引用数:
0
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0
安部一成
.
中国专利
:CN102893197B
,2013-01-23
[7]
投影光学系统以及图像投影装置
[P].
宫健二
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
宫健二
.
中国专利
:CN114355713A
,2022-04-15
[8]
投影光学系统以及图像投影装置
[P].
石龟贵幸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
石龟贵幸
.
中国专利
:CN115032851A
,2022-09-09
[9]
投影光学系统、图像投影装置以及图像投影系统
[P].
内田恒夫
论文数:
0
引用数:
0
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0
内田恒夫
;
山田克
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山田克
.
中国专利
:CN110462481A
,2019-11-15
[10]
变倍投影光学系统以及投影装置
[P].
增井淳雄
论文数:
0
引用数:
0
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0
增井淳雄
.
中国专利
:CN115469441A
,2022-12-13
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