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苯基咪唑化合物
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201080006527.5
申请日
:
2010-02-03
公开(公告)号
:
CN102307861A
公开(公告)日
:
2012-01-04
发明(设计)人
:
涩谷直应
岩田效志
木户智史
申请人
:
申请人地址
:
日本德岛县
IPC主分类号
:
C07D23364
IPC分类号
:
A61K314164
A61K314178
A61P304
A61P306
A61P910
A61P4300
C07D40504
C07D40904
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;李巍
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-01-04
公开
公开
2014-10-29
授权
授权
2012-02-22
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101190909870 IPC(主分类):C07D 233/64 专利申请号:2010800065275 申请日:20100203
共 50 条
[1]
苯基咪唑化合物
[P].
岩田效志
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岩田效志
;
涩谷直应
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涩谷直应
;
木户智史
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木户智史
;
森大辅
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森大辅
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芳冈秀典
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芳冈秀典
;
中田光
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中田光
;
石丸亚希子
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石丸亚希子
.
中国专利
:CN113200962A
,2021-08-03
[2]
苯基咪唑化合物
[P].
岩田效志
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岩田效志
;
涩谷直应
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涩谷直应
;
木户智史
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木户智史
;
森大辅
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森大辅
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芳冈秀典
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芳冈秀典
;
中田光
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中田光
;
石丸亚希子
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石丸亚希子
.
中国专利
:CN108430977B
,2018-08-21
[3]
苯基咪唑化合物
[P].
岩田效志
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机构:
株式会社大塚制药工场
株式会社大塚制药工场
岩田效志
;
涩谷直应
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株式会社大塚制药工场
株式会社大塚制药工场
涩谷直应
;
木户智史
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株式会社大塚制药工场
株式会社大塚制药工场
木户智史
;
森大辅
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株式会社大塚制药工场
株式会社大塚制药工场
森大辅
;
芳冈秀典
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株式会社大塚制药工场
株式会社大塚制药工场
芳冈秀典
;
中田光
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株式会社大塚制药工场
株式会社大塚制药工场
中田光
;
石丸亚希子
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机构:
株式会社大塚制药工场
株式会社大塚制药工场
石丸亚希子
.
日本专利
:CN113200962B
,2024-10-18
[4]
苯并咪唑化合物
[P].
宫泽修平
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宫泽修平
;
篠田昌信
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篠田昌信
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川原哲也
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川原哲也
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渡边信久
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渡边信久
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原田均
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原田均
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饭田大介
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饭田大介
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寺内广毅
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寺内广毅
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永川纯一
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永川纯一
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藤崎秀明
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藤崎秀明
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窪田笃彦
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窪田笃彦
;
上田正人
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上田正人
.
中国专利
:CN101160306B
,2008-04-09
[5]
制备联苯基咪唑化合物的方法
[P].
张伟江
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张伟江
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皮埃尔-让·科尔松
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皮埃尔-让·科尔松
;
蒂莫西·法斯
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蒂莫西·法斯
.
中国专利
:CN105837511A
,2016-08-10
[6]
制备联苯基咪唑化合物的方法
[P].
张伟江
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张伟江
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皮埃尔-让·科尔松
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皮埃尔-让·科尔松
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蒂莫西·法斯
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蒂莫西·法斯
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中国专利
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,2012-05-30
[7]
咪唑化合物
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D·J·布扎德
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D·J·布扎德
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J·P·爱德华兹
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J·P·爱德华兹
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D·E·金德拉楚克
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D·E·金德拉楚克
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J·D·维纳布尔
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J·D·维纳布尔
.
中国专利
:CN101022728B
,2007-08-22
[8]
咪唑化合物
[P].
P·赫罗尔德
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P·赫罗尔德
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R·马
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R·马
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V·欣克
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V·欣克
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A·斯托贾诺维克
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A·斯托贾诺维克
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C·马蒂
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C·马蒂
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S·杰拉科维克
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S·杰拉科维克
;
S·斯图茨
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S·斯图茨
.
中国专利
:CN101421279B
,2009-04-29
[9]
苯并咪唑酮化合物
[P].
保坂正喜
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保坂正喜
.
中国专利
:CN1878838A
,2006-12-13
[10]
苯并咪唑酮化合物
[P].
保坂正喜
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保坂正喜
;
武井俊夫
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武井俊夫
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中国专利
:CN1323077C
,2005-12-07
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