光刻工艺的显影方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010268601.2

申请日：

2010-09-01

公开(公告)号：

CN102385262A

公开(公告)日：

2012-03-21

发明(设计)人：

黄玮

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号

IPC主分类号：

G03F730

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

常亮;李辰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-03-21	公开	公开
2014-01-08	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101684903863 IPC(主分类):G03F 7/30 专利申请号:2010102686012 申请公布日:20120321
2012-05-02	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101237120660 IPC(主分类):G03F 7/30 专利申请号:2010102686012 申请日:20100901

共 50 条

[1]

光刻工艺的显影方法 [P].

杨光宇 .

中国专利 :CN101393401A ,2009-03-25

[2]

正性光刻胶用显影液及光刻工艺中的显影方法 [P].

姚广福 ;

钱志浩 .

中国专利 :CN102540771A ,2012-07-04

[3]

一种光刻工艺的显影方法 [P].

姚树歆 .

中国专利 :CN103123444A ,2013-05-29

[4]

光刻工艺的显影方法 [P].

李燕 ;

曹亮 ;

杨正兵 ;

唐代华 ;

李磊 ;

张华 .

中国专利 :CN103424997B ,2013-12-04

[5]

光刻工艺的返工方法 [P].

刘焕新 .

中国专利 :CN102543683A ,2012-07-04

[6]

光刻工艺方法 [P].

冷国庆 ;

邢会锋 ;

尹静娟 ;

陈倩 .

中国专利 :CN116072519B ,2025-12-09

[7]

光刻胶的去除方法及光刻工艺的返工方法 [P].

杨光宇 .

中国专利 :CN101281379A ,2008-10-08

[8]

可有效去除晶圆光刻工艺过程中显影缺陷的显影方法 [P].

邹渊渊 ;

梁国亮 ;

高连花 ;

蔡奇澄 .

中国专利 :CN101587305A ,2009-11-25

[9]

光刻胶显影方法 [P].

刘希仕 ;

王绪根 ;

朱联合 ;

姚振海 .

中国专利 :CN118189552A ,2024-06-14

[10]

光刻工艺流程及光刻缺陷的消除方法 [P].

胡林 ;

周迅来 ;

贾文娟 .

中国专利 :CN102508415A ,2012-06-20

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