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Si3N4/BAS基陶瓷材料的制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010810929.6
申请日
:
2020-08-13
公开(公告)号
:
CN114075079A
公开(公告)日
:
2022-02-22
发明(设计)人
:
董衡
李淑琴
韩耀
王涛
吕毅
张剑
张昊
申请人
:
申请人地址
:
100074 北京市丰台区云岗北里40号院1-8
IPC主分类号
:
C04B35584
IPC分类号
:
C04B35195
C04B35628
C04B3564
C04B35626
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-02-22
公开
公开
2022-03-11
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 35/584 申请日:20200813
共 50 条
[1]
一种制备Si3N4/BAS复合陶瓷材料的方法
[P].
余娟丽
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余娟丽
;
王涛
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王涛
;
吕毅
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吕毅
;
赵英民
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赵英民
;
郭世峰
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郭世峰
;
裴雨辰
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裴雨辰
.
中国专利
:CN104496484A
,2015-04-08
[2]
一种制备Si3N4/BAS泡沫陶瓷材料的方法
[P].
余娟丽
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余娟丽
;
王涛
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王涛
;
吕毅
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吕毅
;
赵英民
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赵英民
;
郭世峰
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郭世峰
;
裴雨辰
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裴雨辰
.
中国专利
:CN104496521A
,2015-04-08
[3]
一种Si3N4/BAS复相陶瓷材料的制备方法
[P].
余娟丽
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余娟丽
;
王涛
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王涛
;
张剑
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张剑
;
李淑琴
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李淑琴
;
吕毅
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吕毅
;
张天翔
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张天翔
;
赵英民
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赵英民
;
裴雨辰
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裴雨辰
.
中国专利
:CN107759240B
,2018-03-06
[4]
一种Si3N4导热陶瓷材料的制备方法
[P].
银锐明
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银锐明
;
李鹏飞
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李鹏飞
;
王雨铮
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王雨铮
;
刘为扬
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刘为扬
;
谢南卿
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谢南卿
.
中国专利
:CN113831140A
,2021-12-24
[5]
基于光固化技术制备孔隙梯度Si3N4基陶瓷材料的方法
[P].
董衡
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董衡
;
李淑琴
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李淑琴
;
韩耀
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韩耀
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张剑
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张剑
;
吕毅
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吕毅
;
张昊
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张昊
.
中国专利
:CN113800943A
,2021-12-17
[6]
一种超塑性纳米Si3N4基陶瓷材料及其制备方法
[P].
骆俊廷
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骆俊廷
;
张春祥
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张春祥
;
刘日平
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刘日平
.
中国专利
:CN101255058B
,2008-09-03
[7]
界面自韧化Si3N4/SiC片层陶瓷材料的制备方法
[P].
叶枫
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叶枫
;
刘仕超
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刘仕超
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张浩谦
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张浩谦
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张标
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张标
;
刘强
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刘强
;
高烨
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高烨
.
中国专利
:CN105459564A
,2016-04-06
[8]
一种Si3N4陶瓷材料及其制备方法
[P].
曾宇平
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曾宇平
;
梁汉琴
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梁汉琴
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左开慧
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左开慧
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夏咏锋
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夏咏锋
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姚冬旭
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姚冬旭
;
尹金伟
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尹金伟
.
中国专利
:CN112851366B
,2021-05-28
[9]
一种Si3N4/CPP复合陶瓷材料及其制备方法与应用
[P].
于慧君
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于慧君
;
孙博文
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孙博文
;
陈传忠
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陈传忠
.
中国专利
:CN114315338A
,2022-04-12
[10]
一种痕量原位碳诱导的Si3N4导热陶瓷材料及制备方法
[P].
银锐明
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银锐明
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李鹏飞
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李鹏飞
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王雨铮
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王雨铮
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刘为扬
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刘为扬
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谢南卿
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谢南卿
.
中国专利
:CN113800918B
,2021-12-17
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