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形位公差测量装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201920757010.8
申请日：
2019-05-23
公开(公告)号：
CN210070781U
公开(公告)日：
2020-02-14
发明(设计)人：
郭希旺
于子秋
申请人：
申请人地址：
101399 北京市顺义区双河大街99号院1幢五层101内A5-061
IPC主分类号：
G01B500
IPC分类号：
代理机构：
北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447
代理人：
胡婷婷
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-02-14 | 授权 | 授权 |