等离子体处理装置及等离子体处理方法

被引：0

申请号：

CN202111337987.2

申请日：

2021-11-10

公开(公告)号：

CN114496709A

公开(公告)日：

2022-05-13

发明(设计)人：

吉田绚河野和则

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

吕琳;朴秀玉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-13	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

森本未知数 ;

安井尚辉 ;

大越康雄 .

中国专利 :CN104241071A ,2014-12-24

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN101847558B ,2010-09-29

[4]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

铃木达也 ;

樫部诚 .

中国专利 :CN115004863A ,2022-09-02

[5]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

铃木达也 ;

樫部诚 .

日本专利 :CN115004863B ,2025-10-14

[6]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

[7]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

青木裕介 ;

森北信也 ;

户花敏胜 ;

高田郁弥 .

中国专利 :CN111477531A ,2020-07-31

[8]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

岩濑拓 ;

荒濑高男 ;

寺仓聪志 ;

渡边勇人 ;

森政士 .

中国专利 :CN111373511A ,2020-07-03

[9]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

松本直树 ;

舆水地盐 ;

岩田学 ;

田中谕志 .

中国专利 :CN101667534A ,2010-03-10

[10]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

青木裕介 ;

户花敏胜 ;

高田郁弥 ;

森北信也 ;

藤原一延 ;

阿部淳 ;

永海幸一 .

日本专利 :CN119092390A ,2024-12-06

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