基于牺牲层技术的纳米膜压力传感器及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201310091919.1
申请日
2013-03-21
公开(公告)号
CN103196596A
公开(公告)日
2013-07-10
发明(设计)人
揣荣岩 王健 于能斌 李春峰
申请人
申请人地址
110870 辽宁省沈阳市经济技术开发区沈辽西路111号
IPC主分类号
G01L118
IPC分类号
代理机构
沈阳智龙专利事务所(普通合伙) 21115
代理人
宋铁军;周楠
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
基于牺牲层技术的纳米膜压力传感器 [P]. 
揣荣岩 ;
王健 ;
于能斌 ;
李春峰 .
中国专利 :CN203132745U ,2013-08-14
[2]
基于SOI技术的MEMS压力传感器芯片及其制造方法 [P]. 
揣荣岩 ;
王健 ;
郭浩 ;
赵豪 .
中国专利 :CN103604538A ,2014-02-26
[3]
一种MEMS多晶硅纳米膜压力传感器芯片 [P]. 
王健 ;
揣荣岩 .
中国专利 :CN205449349U ,2016-08-10
[4]
一种MEMS多晶硅纳米膜压力传感器芯片及其制作方法 [P]. 
王健 ;
揣荣岩 .
中国专利 :CN105486435A ,2016-04-13
[5]
厚膜压力传感器及其制造方法 [P]. 
刘胜 ;
王小平 ;
李凡亮 ;
吴登峰 ;
曹万 .
中国专利 :CN105092138A ,2015-11-25
[6]
基于牺牲层技术的SOI压力敏感芯片及其制造方法 [P]. 
揣荣岩 ;
衣畅 ;
张晓民 ;
关若飞 ;
关艳霞 ;
李新 ;
刘一婷 .
中国专利 :CN105444931A ,2016-03-30
[7]
带温度传感器的多晶硅纳米膜压力传感器及其制作方法 [P]. 
刘晓为 ;
王喜莲 ;
揣荣岩 ;
陆学斌 ;
施长治 .
中国专利 :CN101639391A ,2010-02-03
[8]
基于MEMS技术微型动态压力传感器及其制造方法 [P]. 
王景伟 ;
王文襄 ;
石桥 ;
邱丽 ;
丰金妹 .
中国专利 :CN101493367A ,2009-07-29
[9]
半导体压力传感器及其制造方法 [P]. 
渡边哲也 ;
工藤贵裕 ;
池田恭一 .
中国专利 :CN1149931A ,1997-05-14
[10]
纳米压力传感器 [P]. 
安志超 ;
杨彪 ;
雷卫武 .
中国专利 :CN2483705Y ,2002-03-27