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一种利用热压印制备大面积纳米金属光子晶体的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111260589.5
申请日
:
2021-10-27
公开(公告)号
:
CN113985501A
公开(公告)日
:
2022-01-28
发明(设计)人
:
窦菲
彭晨
张新平
申请人
:
申请人地址
:
100124 北京市朝阳区平乐园100号
IPC主分类号
:
G02B100
IPC分类号
:
G03F700
代理机构
:
北京思海天达知识产权代理有限公司 11203
代理人
:
张立改
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-02-18
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/00 申请日:20211027
2022-01-28
公开
公开
共 50 条
[1]
一种压印技术制备大面积光子晶体闪烁体的方法
[P].
刘波
论文数:
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0
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刘波
;
程传伟
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程传伟
;
顾牡
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顾牡
;
陈鸿
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陈鸿
;
陈亮
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陈亮
;
刘金良
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刘金良
;
欧阳晓平
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欧阳晓平
.
中国专利
:CN106527043B
,2017-03-22
[2]
一种大面积无裂纹光子晶体的制备方法
[P].
石小迪
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石小迪
;
范文韬
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范文韬
;
鲁希华
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鲁希华
.
中国专利
:CN105887181B
,2016-08-24
[3]
一种基于纳米压印套刻制备不同结构金属光子晶体的方法
[P].
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机构:
窦菲
;
张滨
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机构:
北京工业大学
北京工业大学
张滨
;
论文数:
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机构:
刘红梅
;
论文数:
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机构:
张新平
.
中国专利
:CN117742073A
,2024-03-22
[4]
一种大面积制备纳米光栅的方法
[P].
耿照新
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耿照新
;
吕晓庆
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吕晓庆
.
中国专利
:CN108333658A
,2018-07-27
[5]
一种金属纳米颗粒阵列的大面积制备及柔性转移方法
[P].
方靖淮
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方靖淮
;
吴静
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吴静
.
中国专利
:CN110589758A
,2019-12-20
[6]
一种大面积纳米压印光刻的装置和方法
[P].
兰红波
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兰红波
;
丁玉成
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丁玉成
.
中国专利
:CN102591143A
,2012-07-18
[7]
一种制备大面积不开裂胶体光子晶体膜的方法
[P].
陈苏
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陈苏
;
朱志杰
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朱志杰
;
张静
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张静
.
中国专利
:CN107119327A
,2017-09-01
[8]
一种石墨烯辅助制备大面积金属纳米颗粒阵列的工艺方法
[P].
徐晨
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0
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徐晨
;
董毅博
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董毅博
;
解意洋
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解意洋
;
孙捷
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孙捷
;
胡良臣
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胡良臣
.
中国专利
:CN110844876B
,2020-02-28
[9]
大面积二维金属光子晶体结构的飞秒激光直写制备方法
[P].
乔红贞
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乔红贞
;
杨建军
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杨建军
;
秦晓勇
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秦晓勇
;
王飞
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王飞
.
中国专利
:CN105108342B
,2015-12-02
[10]
一种大面积纳米阵列的制备方法
[P].
欧欣
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欧欣
;
贾棋
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贾棋
;
斯蒂芬·福斯柯
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斯蒂芬·福斯柯
;
王曦
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王曦
.
中国专利
:CN104986728A
,2015-10-21
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