用于X射线成像的光栅结构

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780077605.2

申请日：

2017-12-12

公开(公告)号：

CN110088846A

公开(公告)日：

2019-08-02

发明(设计)人：

T·克勒 G·福格特米尔

申请人：

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

IPC主分类号：

G21K102

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

李光颖;王英

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-08-02	公开	公开
2020-01-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G21K 1/02 申请日:20171212

共 50 条

[1]

用于X射线成像的源光栅 [P].

T·扬森 ;

R·普罗克绍 .

中国专利 :CN109688930A ,2019-04-26

[2]

x射线成像装置及用于x射线成像的方法 [P].

王永平 ;

魏晓振 ;

杨大华 ;

谭爱华 ;

江震 ;

杨向民 .

中国专利 :CN105992446A ,2016-10-05

[3]

相衬X射线成像设备及其相位光栅 [P].

O·普罗伊彻 .

中国专利 :CN105612584A ,2016-05-25

[4]

用于X射线成像设施的检查台和X射线成像设施 [P].

贝特霍尔德·鲍曼 ;

安德烈亚斯·布赫脑尔 ;

托马斯·迪普 ;

康斯坦丁·克诺特 ;

沃尔夫冈·诺伊贝尔 .

中国专利 :CN217285823U ,2022-08-26

[5]

用于X射线成像的X射线管位置估计方法、装置和系统 [P].

徐李云 ;

范成浩 ;

葛照强 .

中国专利 :CN112494057B ,2024-05-14

[6]

用于X射线成像的X射线管位置估计方法、装置和系统 [P].

徐李云 ;

范成浩 ;

葛照强 .

中国专利 :CN112494057A ,2021-03-16

[7]

材料微结构的X 射线成像 [P].

L.瓦尔加 ;

B.瓦尔加 ;

V.卡洛 .

中国专利 :CN107533021A ,2018-01-02

[8]

X射线成像设备和用于控制该X射线成像设备的方法 [P].

崔忠桓 ;

吴度官 ;

韩宇燮 .

中国专利 :CN103845067B ,2014-06-11

[9]

用于X射线成像设备的支架 [P].

金经祐 .

中国专利 :CN303191714S ,2015-04-29

[10]

用于X射线成像的阴极组件 [P].

T·雷佩宁 .

中国专利 :CN111566774A ,2020-08-21

← 1 2 3 4 5 →