曝光控制装置、曝光控制方法、程序、成像装置和移动体

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专利类型
发明
申请号
CN201980021050.9
申请日
2019-03-15
公开(公告)号
CN111886854B
公开(公告)日
2020-11-03
发明(设计)人
李骏
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
H04N5235
IPC分类号
G03B7091 G03B3000
代理机构
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
张小稳
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
成像装置、曝光控制方法、程序和成像器件 [P]. 
宫谷佳孝 .
中国专利 :CN111201778A ,2020-05-26
[2]
成像装置和曝光控制方法 [P]. 
冈本训 .
中国专利 :CN101401418B ,2009-04-01
[3]
曝光控制装置和曝光控制方法 [P]. 
滨田敬 .
中国专利 :CN106257917B ,2016-12-28
[4]
曝光控制方法和曝光控制装置 [P]. 
刘刚 ;
陈磊 ;
曾峰 ;
徐鹏 .
中国专利 :CN113784056A ,2021-12-10
[5]
曝光控制装置和曝光控制方法 [P]. 
仓根治久 .
中国专利 :CN100422839C ,2005-04-27
[6]
曝光控制装置、摄像装置、曝光控制方法及程序 [P]. 
藤井雅人 .
日本专利 :CN119485030A ,2025-02-18
[7]
曝光控制方法、曝光控制装置及电子装置 [P]. 
孙剑波 .
中国专利 :CN106851123A ,2017-06-13
[8]
曝光控制装置以及曝光控制方法 [P]. 
尾崎恭平 ;
长谷川太一 ;
杉原邦泰 ;
浅井五朗 ;
饭田智阳 .
中国专利 :CN111937373B ,2020-11-13
[9]
曝光控制装置与曝光控制方法 [P]. 
高桥贤司 .
中国专利 :CN1205506C ,2002-09-18
[10]
曝光控制装置及曝光控制方法 [P]. 
陈明 ;
宋丽晓 ;
何引刚 ;
岳莹莹 ;
杨增启 .
中国专利 :CN105991935A ,2016-10-05