保护膜形成膜、保护膜形成用片及检查方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010288922.2

申请日：

2014-01-30

公开(公告)号：

CN111613564A

公开(公告)日：

2020-09-01

发明(设计)人：

佐伯尚哉山本大辅米山裕之高野健

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21683

IPC分类号：

H01L2166 C09J710 C09J720 C09J730 C09J13308 C09J16300 C09J1104 C09J1106

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王利波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-01	公开	公开
2020-09-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/683 申请日:20140130

共 50 条

[1]

保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及检查方法 [P].

山本大辅 ;

米山裕之 .

中国专利 :CN106415819A ,2017-02-15

[2]

保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及检查方法 [P].

山本大辅 ;

米山裕之 .

中国专利 :CN112563181A ,2021-03-26

[3]

保护膜形成膜、保护膜形成用片及检查方法 [P].

佐伯尚哉 ;

山本大辅 ;

米山裕之 ;

高野健 .

中国专利 :CN105408988A ,2016-03-16

[4]

保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片、及装置的制造方法 [P].

中石康喜 ;

佐藤明德 ;

稻男洋一 ;

山下茂之 .

中国专利 :CN115132638A ,2022-09-30

[5]

保护膜形成膜及保护膜形成用复合片 [P].

小桥力也 ;

山本大辅 ;

加太章生 .

中国专利 :CN107112219A ,2017-08-29

[6]

保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及加工物的制造方法 [P].

山本大辅 ;

米山裕之 .

中国专利 :CN105934811A ,2016-09-07

[7]

保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及加工物的制造方法 [P].

山本大辅 ;

米山裕之 .

中国专利 :CN111785673A ,2020-10-16

[8]

保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片 [P].

米山裕之 ;

稻男洋一 ;

小桥力也 .

日本专利 :CN119141993A ,2024-12-17

[9]

保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片 [P].

佐伯尚哉 ;

山本大辅 ;

高野健 .

中国专利 :CN104937712B ,2015-09-23

[10]

保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片 [P].

薄刃美玲 ;

米山裕之 .

中国专利 :CN112625276A ,2021-04-09

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