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溅镀装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN02204370.5
申请日
:
2002-02-01
公开(公告)号
:
CN2525101Y
公开(公告)日
:
2002-12-11
发明(设计)人
:
林祺芳
曾子峻
申请人
:
申请人地址
:
台湾省台北县土城市土城工业区中山路10号
IPC主分类号
:
C23C1434
IPC分类号
:
代理机构
:
上海专利商标事务所
代理人
:
任永武
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2010-08-04
专利权的终止
未缴年费专利权终止 号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101004355434 IPC(主分类):C23C 14/34 专利号:ZL022043705 申请日:20020201 授权公告日:20021211
2002-12-11
授权
授权
共 50 条
[1]
溅镀装置
[P].
方振籛
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0
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方振籛
;
郭金柱
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郭金柱
;
郑博仁
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郑博仁
;
黄泳钊
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黄泳钊
.
中国专利
:CN208632634U
,2019-03-22
[2]
溅镀装置
[P].
陈世浦
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陈世浦
;
林东达
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林东达
;
黄炳勋
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黄炳勋
.
中国专利
:CN202187057U
,2012-04-11
[3]
溅镀装置
[P].
王仲培
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王仲培
.
中国专利
:CN102086507B
,2011-06-08
[4]
溅镀装置
[P].
王仲培
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王仲培
.
中国专利
:CN102277559A
,2011-12-14
[5]
溅镀磁吸盘及溅镀下料装置
[P].
翟金双
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翟金双
.
中国专利
:CN210943885U
,2020-07-07
[6]
离子溅镀装置
[P].
陈聪茂
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陈聪茂
.
中国专利
:CN201495281U
,2010-06-02
[7]
一种溅镀夹具以及具有溅镀夹具的溅镀装置
[P].
白雨成
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白雨成
;
全义九
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全义九
;
李相文
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李相文
;
张昌泳
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张昌泳
;
丁钟国
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丁钟国
;
边娜恩
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边娜恩
.
中国专利
:CN208293074U
,2018-12-28
[8]
溅镀机构以及包含其的溅镀装置
[P].
林伟德
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林伟德
;
杨宏河
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杨宏河
;
孙湘平
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孙湘平
;
张元铭
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张元铭
;
廖泯谚
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廖泯谚
.
中国专利
:CN201530861U
,2010-07-21
[9]
溅镀辅料
[P].
吴钦鼎
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吴钦鼎
.
中国专利
:CN216337923U
,2022-04-19
[10]
溅镀式镀膜装置
[P].
裴绍凯
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裴绍凯
.
中国专利
:CN101886248B
,2010-11-17
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