一种正交相二维层状SiP2单晶薄膜及其制备方法和应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510925773.5
申请日
2015-12-11
公开(公告)号
CN105506742A
公开(公告)日
2016-04-20
发明(设计)人
王善朋 陶绪堂 张翔 李春龙
申请人
申请人地址
250199 山东省济南市历城区山大南路27号
IPC主分类号
C30B2946
IPC分类号
C30B2964 C30B910
代理机构
济南金迪知识产权代理有限公司 37219
代理人
王绪银
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
正交相二维层状SiP单晶及薄膜的制备方法及其应用 [P]. 
王善朋 ;
陶绪堂 ;
李春龙 ;
于童童 .
中国专利 :CN106119960A ,2016-11-16
[2]
二维层状GeP单晶纳米薄膜的制备方法及应用 [P]. 
王善朋 ;
陶绪堂 ;
于童童 ;
赵淑琪 ;
张百涛 ;
何京良 .
中国专利 :CN110424054A ,2019-11-08
[3]
制备范德华二维层状单晶的方法 [P]. 
李泽方 ;
郗学奎 ;
王文洪 .
中国专利 :CN112779597B ,2021-05-11
[4]
二维层状纳米片及其制备方法和应用 [P]. 
张培新 ;
杨明 ;
马定涛 ;
王艳宜 .
中国专利 :CN114314528A ,2022-04-12
[5]
一种正交相五氧化二钽单晶薄膜的制备方法 [P]. 
马啸尘 .
中国专利 :CN114108087A ,2022-03-01
[6]
一种二维层状响应膜及其制备方法和应用 [P]. 
肖丹 ;
郑梦婷 ;
杨学敏 ;
李建波 .
中国专利 :CN114291822A ,2022-04-08
[7]
一种二维层状材料及其制备方法和应用 [P]. 
丘陵 ;
刘闽苏 ;
成会明 ;
范维仁 ;
丁斯远 .
中国专利 :CN113264510A ,2021-08-17
[8]
一种层状二维薄片的制备 [P]. 
任召辉 ;
夏瑞浩 ;
韩高荣 .
中国专利 :CN117923505A ,2024-04-26
[9]
一种基于二维碲纳米晶体制备二维超导PtTe2及其制备方法和应用 [P]. 
王一休 ;
杨青 ;
李凌 ;
张亮 ;
付翔 .
中国专利 :CN114735661A ,2022-07-12
[10]
一种大尺寸非层状二维硫化镉薄膜及其制备方法和应用 [P]. 
魏丛 ;
袁江博 ;
刘佳晖 ;
李美萱 ;
许群 .
中国专利 :CN116573666B ,2025-06-17