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半导体装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010317069.2
申请日
:
2020-04-21
公开(公告)号
:
CN113540228A
公开(公告)日
:
2021-10-22
发明(设计)人
:
周钰杰
林琮翔
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹科学园区
IPC主分类号
:
H01L29778
IPC分类号
:
H01L21335
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
:
王涛;汤在彦
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-11-09
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/778 申请日:20200421
2021-10-22
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体基板、半导体装置、及半导体装置的制造方法
[P].
竹中充
论文数:
0
引用数:
0
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竹中充
;
高木信一
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高木信一
;
秦雅彦
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秦雅彦
;
市川磨
论文数:
0
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市川磨
.
中国专利
:CN101960605A
,2011-01-26
[2]
半导体装置
[P].
平田直文
论文数:
0
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0
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
平田直文
;
蔵口友美
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
蔵口友美
;
植木伸一
论文数:
0
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
植木伸一
;
堀阳一
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
堀阳一
;
谷平圭
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
谷平圭
.
日本专利
:CN115084279B
,2025-05-23
[3]
半导体装置
[P].
新垣实
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新垣实
;
广畑彻
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广畑彻
;
中嶋和利
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中嶋和利
;
菅博文
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菅博文
.
中国专利
:CN101192642A
,2008-06-04
[4]
半导体装置
[P].
华特·吴
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机构:
世界先进积体电路股份有限公司
世界先进积体电路股份有限公司
华特·吴
;
林鑫成
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机构:
世界先进积体电路股份有限公司
世界先进积体电路股份有限公司
林鑫成
;
黄嘉庆
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0
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机构:
世界先进积体电路股份有限公司
世界先进积体电路股份有限公司
黄嘉庆
.
中国专利
:CN116344576B
,2025-10-31
[5]
半导体装置
[P].
杉原浩平
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0
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0
杉原浩平
;
太田和伸
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太田和伸
;
尾田秀一
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尾田秀一
;
林岳
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林岳
.
中国专利
:CN1574279A
,2005-02-02
[6]
半导体装置
[P].
平田直文
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平田直文
;
蔵口友美
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蔵口友美
;
植木伸一
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植木伸一
;
堀阳一
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堀阳一
;
谷平圭
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谷平圭
.
中国专利
:CN115084279A
,2022-09-20
[7]
半导体装置以及半导体装置的制造方法
[P].
长井雅嗣
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
长井雅嗣
;
佐藤慎吾
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
佐藤慎吾
.
日本专利
:CN118588751A
,2024-09-03
[8]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
佐泽洋幸
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佐泽洋幸
;
西川直宏
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西川直宏
;
栗田靖之
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栗田靖之
;
秦雅彦
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秦雅彦
.
中国专利
:CN101971307A
,2011-02-09
[9]
光学半导体装置
[P].
仓本大
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0
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仓本大
;
风田川统之
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风田川统之
;
滨口达史
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滨口达史
;
泉将一郎
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泉将一郎
.
中国专利
:CN107112722A
,2017-08-29
[10]
半导体装置及其形成方法
[P].
周政伟
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周政伟
;
吴修铭
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吴修铭
.
中国专利
:CN114496787A
,2022-05-13
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