浸没式光刻机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201820936597.4

申请日：

2018-06-14

公开(公告)号：

CN208444132U

公开(公告)日：

2019-01-29

发明(设计)人：

骆建钢黄志凯叶日铨

申请人：

申请人地址：

223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291

代理人：

杨楷;毛立群

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-01-29	授权	授权

共 50 条

[1]

浸没式光刻机基底台系统、浸没式光刻机 [P].

魏龙飞 ;

丛国栋 ;

方洁 .

中国专利 :CN207051662U ,2018-02-27

[2]

浸没式光刻机基底台系统、浸没式光刻机 [P].

魏龙飞 ;

丛国栋 ;

方洁 .

中国专利 :CN108663906A ,2018-10-16

[3]

浸没式头罩及浸没式光刻机 [P].

李宝琪 ;

谢世明 .

中国专利 :CN223728134U ,2025-12-26

[4]

用于浸没式光刻机的浸没头检测装置 [P].

许邦泓 ;

刘隽瀚 ;

蔡孟霖 ;

赵弘文 .

中国专利 :CN208156413U ,2018-11-27

[5]

用于浸没式光刻机的双工件台装置以及浸没式光刻机 [P].

丛国栋 ;

郑清泉 ;

方洁 .

中国专利 :CN107561866A ,2018-01-09

[6]

一种浸没式光刻机浸没头检查装置 [P].

吴晨瑄 ;

耿大卫 ;

董佳 ;

施超 ;

朱灿成 .

中国专利 :CN220305558U ,2024-01-05

[7]

电力半导体生产用浸没式光刻机 [P].

夏清波 .

中国专利 :CN213904060U ,2021-08-06

[8]

一种浸没式光刻机浸没流场维持装置 [P].

张俊杰 .

中国专利 :CN214670081U ,2021-11-09

[9]

浸没式光刻机浸没流场维持装置及方法 [P].

朱树存 .

中国专利 :CN104238274A ,2014-12-24

[10]

一种提供浸没式光刻机扫描路径的工作结构 [P].

蔡恩静 .

中国专利 :CN202975590U ,2013-06-05

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