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光谱芯片和光谱分析装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202121623561.9
申请日
:
2021-07-16
公开(公告)号
:
CN215069988U
公开(公告)日
:
2021-12-07
发明(设计)人
:
张鸿
黄志雷
王宇
申请人
:
申请人地址
:
100083 北京市海淀区王庄路1号清华同方科技大厦D座西楼2211
IPC主分类号
:
H01L27146
IPC分类号
:
G01J104
G01J142
代理机构
:
北京唐颂永信知识产权代理有限公司 11755
代理人
:
刘伟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-12-07
授权
授权
共 50 条
[1]
光谱芯片和光谱分析装置
[P].
覃秋军
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覃秋军
;
丛培沛
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丛培沛
;
黄志雷
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黄志雷
;
王宇
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王宇
.
中国专利
:CN216288459U
,2022-04-12
[2]
光谱分析装置、光谱分析系统和光谱分析方法
[P].
林田纯弥
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
林田纯弥
;
柿下容弓
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
柿下容弓
;
服部英春
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
服部英春
;
堀入纯
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
堀入纯
.
日本专利
:CN120112781A
,2025-06-06
[3]
光谱芯片及其制备方法、光谱分析装置
[P].
张鸿
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张鸿
;
黄志雷
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黄志雷
;
王宇
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王宇
.
中国专利
:CN114843293A
,2022-08-02
[4]
光谱芯片及其制备方法、光谱分析装置
[P].
张鸿
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张鸿
;
黄志雷
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黄志雷
;
王宇
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王宇
.
中国专利
:CN114843292A
,2022-08-02
[5]
光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
西村克美
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西村克美
.
中国专利
:CN107367469B
,2017-11-21
[6]
光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
冯胜
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冯胜
.
中国专利
:CN115343227A
,2022-11-15
[7]
光谱分析用池、光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
上野楠夫
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
上野楠夫
;
村上达希
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
村上达希
;
箕轮大辉
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
箕轮大辉
.
日本专利
:CN121057932A
,2025-12-02
[8]
气体的光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
森下淳一
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森下淳一
;
石原良夫
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石原良夫
;
吴尚谦
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吴尚谦
.
中国专利
:CN1258352A
,2000-06-28
[9]
光谱分析装置、光谱分析方法和存储介质
[P].
西村克美
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西村克美
;
中谷茂
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中谷茂
;
扬·波佩
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扬·波佩
.
中国专利
:CN109425583A
,2019-03-05
[10]
光谱分析
[P].
基思·理查森
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基思·理查森
;
史蒂文·德里克·普林格尔
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史蒂文·德里克·普林格尔
;
茱莉亚·巴洛格
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茱莉亚·巴洛格
;
佐尔坦·塔卡茨
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佐尔坦·塔卡茨
.
中国专利
:CN112557491A
,2021-03-26
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