一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310699501.9
申请日
2013-12-18
公开(公告)号
CN103724656B
公开(公告)日
2014-04-16
发明(设计)人
龚国利 赵婷峰 李慧
申请人
申请人地址
710021 陕西省西安市未央区大学园1号
IPC主分类号
C08J928
IPC分类号
C08F22214 C08F22006 C08F22014 C08F244
代理机构
西安通大专利代理有限责任公司 61200
代理人
陆万寿
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种采用混合模板制备埃博霉素分子印迹聚合物膜的方法 [P]. 
龚国利 ;
赵婷峰 ;
李慧 .
中国专利 :CN103724655A ,2014-04-16
[2]
一种埃博霉素B分子印迹聚合物的制备方法 [P]. 
李慧 ;
万吉 ;
龚国利 ;
王学川 .
中国专利 :CN102432753A ,2012-05-02
[3]
一种埃博霉素D分子印迹聚合物及其制备方法 [P]. 
龚国利 ;
贾琳 ;
李慧 .
中国专利 :CN102504100B ,2012-06-20
[4]
一种添加分子印迹聚合物的埃博霉素D发酵生产方法 [P]. 
龚国利 ;
陈松 ;
李慧 ;
王娜 .
中国专利 :CN102373251A ,2012-03-14
[5]
红霉素分子印迹聚合物的制备方法 [P]. 
张大兵 ;
武爱波 ;
宋素泉 .
中国专利 :CN101143910A ,2008-03-19
[6]
采用混合模板制备17β-雌二醇分子印迹聚合物的方法 [P]. 
龚国利 ;
贾琳 ;
李慧 ;
陈松 .
中国专利 :CN102532391B ,2012-07-04
[7]
一种氯霉素分子印迹聚合物及其制备方法 [P]. 
唐仕荣 ;
宋慧 ;
刘全德 ;
陈尚龙 ;
高兆建 ;
李勇 ;
刘恩岐 ;
朱伶俐 ;
王宇 ;
金晶 .
中国专利 :CN105111370B ,2015-12-02
[8]
一种氯霉素分子印迹聚合物的制备方法 [P]. 
王小玉 ;
孙复钱 ;
刘昕昕 ;
曾国屏 ;
喻继文 .
中国专利 :CN106397671A ,2017-02-15
[9]
一种分子印迹聚合物的制备方法 [P]. 
赵睿 ;
陈志勇 ;
刘祥军 ;
刘国诠 .
中国专利 :CN1718593A ,2006-01-11
[10]
一种盐霉素分子印迹聚合物及其制备方法 [P]. 
窦祥龙 .
中国专利 :CN102617788A ,2012-08-01