一种高分子薄膜的制备方法

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申请号
CN202210929298.9
申请日
2022-08-03
公开(公告)号
CN115383951A
公开(公告)日
2022-11-25
发明(设计)人
伍强贤
申请人
申请人地址
430079 湖北省武汉市洪山区珞喻路152号
IPC主分类号
B29C4302
IPC分类号
B23P1524 B29L700
代理机构
武汉天力专利事务所 42208
代理人
吴晓颖
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种高分子薄膜的制备方法 [P]. 
伍强贤 .
中国专利 :CN115383951B ,2024-09-03
[2]
一种高分子柔性导电薄膜的制备方法 [P]. 
申有名 ;
张春香 ;
戴灵聪 ;
彭新菊 ;
彭珍 ;
谢滢婷 .
中国专利 :CN108024457B ,2018-05-11
[3]
一种干燥高分子薄膜的制备方法 [P]. 
严昊 ;
刘轶群 ;
潘国元 ;
张杨 ;
郭敏 .
中国专利 :CN105561798A ,2016-05-11
[4]
一种液晶/高分子薄膜的制备方法 [P]. 
杨槐 ;
任云霄 ;
胡威 ;
狐竣梅 ;
李慧 ;
王孝 ;
许建军 .
中国专利 :CN114456415A ,2022-05-10
[5]
一种液晶/高分子薄膜的制备方法 [P]. 
杨槐 ;
任云霄 ;
胡威 ;
狐竣梅 ;
李慧 ;
王孝 ;
许建军 .
中国专利 :CN116082679B ,2025-07-11
[6]
一种金属-高分子多层复合薄膜的制备方法 [P]. 
张锡强 ;
李欢乐 ;
王茜 ;
李珪 ;
赵羽晴 ;
余赐贤 .
中国专利 :CN109576678A ,2019-04-05
[7]
一种高分子薄膜生产制备方法 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN112938582A ,2021-06-11
[8]
高分子薄膜驻极体的制造方法 [P]. 
王寿泰 ;
张国光 ;
张和康 .
中国专利 :CN1006502B ,1987-03-11
[9]
一种抗静电高分子薄膜及其制备方法 [P]. 
袁志奇 ;
李永军 ;
李晓飞 ;
曾颖哲 ;
王光硕 .
中国专利 :CN112341660B ,2021-02-09
[10]
一种高分子薄膜的再利用方法 [P]. 
许自林 .
中国专利 :CN109747070A ,2019-05-14