处理室残留物的两步式等离子清洗

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02809386.0

申请日：

2002-05-03

公开(公告)号：

CN1507502A

公开(公告)日：

2004-06-23

发明(设计)人：

布雷特·C·理查森文森特·翁

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

H01J3732 B08B700 H01L213213

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

李辉

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-06-23	公开	公开
2004-09-01	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-08-13	授权	授权
2022-05-20	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20020503 授权公告日:20080813

共 50 条

[1]

一种清洗等离子刻蚀残留物的清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 .

中国专利 :CN101652717A ,2010-02-17

[2]

一种清洗等离子刻蚀残留物的清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

曾浩 .

中国专利 :CN101290482A ,2008-10-22

[3]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 .

中国专利 :CN101981510B ,2011-02-23

[4]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

彭杏 ;

于昊 .

中国专利 :CN101597548A ,2009-12-09

[5]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

彭杏 ;

于昊 .

中国专利 :CN101666984B ,2010-03-10

[6]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 ;

彭杏 .

中国专利 :CN101561641A ,2009-10-21

[7]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 .

中国专利 :CN101827926A ,2010-09-08

[8]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

彭洪修 .

中国专利 :CN102827707A ,2012-12-19

[9]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 .

中国专利 :CN101412949A ,2009-04-22

[10]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 .

中国专利 :CN101955852A ,2011-01-26

← 1 2 3 4 5 →