确定辐射场强度分布的方法和设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02825448.1

申请日：

2002-12-18

公开(公告)号：

CN1606701A

公开(公告)日：

2005-04-13

发明(设计)人：

阿里·维尔塔宁

申请人：

申请人地址：

芬兰于韦斯屈莱

IPC主分类号：

G01T129

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

蒋世迅

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-11-08	授权	授权
2014-02-19	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101572121833 IPC(主分类):G01T 1/29 专利号:ZL028254481 申请日:20021218 授权公告日:20061108 终止日期:20121218
2005-04-13	公开	公开
2005-06-22	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

用来控制电场强度分布的装置 [P].

谢士炜 ;

林汉昌 ;

林卓毅 .

中国专利 :CN103326108B ,2013-09-25

[2]

测量电场强度的系统和方法 [P].

佐佐木健司 ;

永井雅明 .

中国专利 :CN1168473A ,1997-12-24

[3]

光场强度检测系统和方法 [P].

杨爱萍 ;

杜路平 ;

孟繁斐 ;

袁小聪 .

中国专利 :CN110081969A ,2019-08-02

[4]

基于电场强度分布云图色度信息的电极设计方法 [P].

叶齐政 ;

程子鹏 ;

聂晓菲 .

中国专利 :CN115293053B ,2022-12-27

[5]

用于产生激光辐射的线状的强度分布的设备 [P].

M·伊万嫩科 ;

V·格林 .

中国专利 :CN109254408B ,2019-01-22

[6]

基于压缩感知的太赫兹辐射强度分布探测方法和装置 [P].

王与烨 ;

段攀 ;

徐德刚 ;

闫超 ;

刘宏翔 ;

徐文韬 ;

唐隆煌 ;

钟凯 ;

姚建铨 .

中国专利 :CN105509880A ,2016-04-20

[7]

测量γ/X辐射场强度的方法及电流型半导体探测结构 [P].

欧阳晓平 ;

雷岚 ;

谭新建 .

中国专利 :CN102636804B ,2012-08-15

[8]

辐射射束强度分布整形器 [P].

T·卡塔尔斯基 ;

E·勒斯尔 ;

R·莱文森 .

中国专利 :CN104853679A ,2015-08-19

[9]

一种激光近场强度分布测量装置 [P].

田英华 ;

叶一东 ;

李国会 .

中国专利 :CN102175310A ,2011-09-07

[10]

确定经过射束调整装置的粒子强度分布的方法和装置 [P].

刘娟 ;

周婧劼 ;

李贵 ;

唐寅 .

中国专利 :CN106354896A ,2017-01-25

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