对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011264887.7

申请日：

2020-11-13

公开(公告)号：

CN112795868A

公开(公告)日：

2021-05-14

发明(设计)人：

中须祥浩青木泰一郎铃木健太郎冈部俊介

申请人：

申请人地址：

日本新泻县

IPC主分类号：

C23C1404

IPC分类号：

C23C1454 C23C1424 C23C1434 C23C1604 C23C1652 H01L5156

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

邓宗庆

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/04 申请日:20201113
2021-05-14	公开	公开

共 50 条

[1]

对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法及电子器件的制造方法 [P].

神田宽 .

中国专利 :CN114622160A ,2022-06-14

[2]

对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法及电子器件的制造方法 [P].

绪方俊宏 ;

谷和宪 ;

安川英宏 .

中国专利 :CN114540758A ,2022-05-27

[3]

对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法及电子器件的制造方法 [P].

长沼义人 .

日本专利 :CN118880230A ,2024-11-01

[4]

对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法及电子器件的制造方法 [P].

大川显 ;

山本武 ;

盐入信朗 ;

佐藤和之 .

日本专利 :CN121228168A ,2025-12-30

[5]

对准及成膜装置、对准及成膜方法、电子器件的制造方法 [P].

柏仓一史 ;

石井博 .

中国专利 :CN111118445A ,2020-05-08

[6]

对准及成膜装置、对准及成膜方法、电子器件的制造方法 [P].

菅原洋纪 .

中国专利 :CN113005419A ,2021-06-22

[7]

对准系统、成膜装置、对准方法、成膜方法以及电子器件的制造方法 [P].

柏仓一史 ;

石井博 .

日本专利 :CN119194368A ,2024-12-27

[8]

对准系统、成膜装置、对准方法、成膜方法以及电子器件的制造方法 [P].

柏仓一史 ;

石井博 .

中国专利 :CN111118466A ,2020-05-08

[9]

对准装置、成膜装置、对准方法及电子器件的制造方法 [P].

泷泽毅 ;

川畑奉代 ;

石井博 ;

佐藤和之 ;

吉津直人 ;

佐藤智之 ;

小林康信 .

日本专利 :CN119517821A ,2025-02-25

[10]

对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法以及存储介质 [P].

小林康信 .

中国专利 :CN113637948A ,2021-11-12

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