转印膜及在基片上形成图像的方法

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专利类型
发明
申请号
CN00817211.0
申请日
2000-12-18
公开(公告)号
CN1208203C
公开(公告)日
2003-04-09
发明(设计)人
U·R·韦德亚 F·P·施瓦茨曼 R·T·尼普
申请人
申请人地址
美国明尼苏达州
IPC主分类号
B41M500
IPC分类号
代理机构
上海专利商标事务所有限公司
代理人
张宜红
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
转印膜及转印膜的制造方法 [P]. 
林威宇 ;
魏百盛 .
中国专利 :CN102114737A ,2011-07-06
[2]
一种打印转印膜在承印物上形成图案的方法 [P]. 
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[3]
打印转印膜及制作方法和其在承印物上形成图案的方法 [P]. 
王兆进 .
中国专利 :CN1915681A ,2007-02-21
[4]
刻字转印膜及制作方法和其在承印物上形成图案的方法 [P]. 
王兆进 .
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[5]
转印膜及导体图案形成方法 [P]. 
儿玉邦彦 ;
山田悟 ;
鬼塚悠 .
日本专利 :CN118542078A ,2024-08-23
[6]
转印膜以及转印膜的制造方法 [P]. 
金内和彦 ;
芝田岳永 ;
井上知之 .
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[7]
植绒转印膜及制作方法和其在承印物上形成图案的方法 [P]. 
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[8]
转印膜、转印膜的制造方法以及转印方法 [P]. 
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[9]
图像转印片、图像转印片的制造方法、图像转印方法 [P]. 
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[10]
用于EVA拖鞋转印的转印膜及转印方法 [P]. 
蔡向阳 ;
尤一峰 ;
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