含氮硅烷化合物粉末及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080015350.5

申请日：

2010-03-30

公开(公告)号：

CN102365232A

公开(公告)日：

2012-02-29

发明(设计)人：

西尾正幸新居田贞夫岛川敏弘

申请人：

申请人地址：

日本山口县

IPC主分类号：

C01B21082

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

王永红

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-02-29	公开	公开
2019-03-19	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C01B 21/082 申请日:20100330 授权公告日:20150415 终止日期:20180330
2015-04-15	授权	授权
2012-04-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101222311778 IPC(主分类):C01B 21/082 专利申请号:2010800153505 申请日:20100330

共 50 条

[1]

制造含氮有机氧基硅烷化合物的方法 [P].

川上雅人 ;

殿村洋一 .

中国专利 :CN114573630A ,2022-06-03

[2]

含氮环状有机氧硅烷化合物及其制备方法 [P].

殿村洋一 .

中国专利 :CN111217849A ,2020-06-02

[3]

含氮多官能团有机氧硅烷化合物及其制造方法 [P].

殿村洋一 ;

久保田透 ;

本间孝之 .

中国专利 :CN107312029A ,2017-11-03

[4]

含氮环状化合物及其制造方法 [P].

远藤雅久 ;

孙军 .

中国专利 :CN110023317B ,2019-07-16

[5]

含氮杂环硅烷化合物及其制备方法和应用 [P].

王永根 ;

肖奇伟 ;

梁焕军 ;

冼日华 ;

黄伟麟 ;

袁明军 ;

杜小林 ;

杨彦章 ;

施少雄 .

中国专利 :CN112430246B ,2024-04-02

[6]

含氮杂环硅烷化合物及其制备方法和应用 [P].

王永根 ;

肖奇伟 ;

梁焕军 ;

冼日华 ;

黄伟麟 ;

袁明军 ;

杜小林 ;

杨彦章 ;

施少雄 .

中国专利 :CN112430246A ,2021-03-02

[7]

硅烷化合物的制造方法 [P].

上等和良 ;

伊藤祥一 ;

釜谷康平 .

日本专利 :CN113574034B ,2024-03-08

[8]

硅烷化合物的制造方法 [P].

上等和良 ;

伊藤祥一 ;

釜谷康平 .

中国专利 :CN113574034A ,2021-10-29

[9]

含氮杂环化合物及其制造方法 [P].

久户濑耕一 ;

井上博生 ;

坪仓史朗 .

中国专利 :CN102844302B ,2012-12-26

[10]

用于制造含SiOC的化合物的连续方法 [P].

沃尔夫冈·沙滕曼 ;

格奥尔格·洛尔 .

中国专利 :CN100436509C ,2006-08-02

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