低聚吩嗪鎓化合物的混合物及用于电解沉积铜沉积物的酸浴

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200380107006.9

申请日：

2003-12-09

公开(公告)号：

CN1729312A

公开(公告)日：

2006-02-01

发明(设计)人：

海科·布伦纳沃尔夫冈·达姆斯托马斯·莫里茨乌多·格里泽阿基夫·厄兹柯克

申请人：

申请人地址：

德国柏林

IPC主分类号：

C25D338

IPC分类号：

C25D712

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

过晓东

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-05-09	授权	授权
2020-11-17	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C07D 241/46 申请日:20031209 授权公告日:20120509 终止日期:20191209
2006-02-01	公开	公开
2006-03-29	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

用于电解沉积铜沉积物的含有卤化或拟卤化的单体吩嗪鎓化合物的酸浴 [P].

海科·布伦纳 ;

沃尔夫冈·达姆斯 ;

乌多·格里泽(已故) .

中国专利 :CN1882550A ,2006-12-20

[2]

用于电解沉积锻纹镍沉积物的酸电镀浴及方法 [P].

沃尔夫冈·达姆斯 ;

克劳斯－迪特尔·舒尔茨 ;

托马斯·莫里茨 .

中国专利 :CN1656255A ,2005-08-17

[3]

用于电解沉积铜沉积物的酸性水性组合物 [P].

R·施密特 ;

J·加伊达 ;

W·罗兰 ;

J·帕尔姆 ;

H·杰哈 .

中国专利 :CN115427613A ,2022-12-02

[4]

用于润滑组合物的沉积物控制化合物 [P].

E·P·桑普勒 ;

A·梅修 ;

T·德莱夫加尼克 ;

G·M·沃克 ;

J-L·迪弗拉维奥 ;

张琰湜 .

美国专利 :CN119546733A ,2025-02-28

[5]

聚乙烯基铵化合物、及其制法、包含该化合物的酸性溶液和电解沉积铜沉积物的方法 [P].

U·格里泽（已故） ;

W·达姆斯 ;

P·哈特曼 .

中国专利 :CN101137680A ,2008-03-05

[6]

用于电解沉积铜的水性酸浴及方法 [P].

H·布伦纳 ;

B·罗尔福斯 ;

D·罗德 ;

T·普利特 .

中国专利 :CN101960054B ,2011-01-26

[7]

化合物混合物、感光体以及化合物混合物的制造方法 [P].

东润 ;

小岛健辅 ;

清水智文 .

中国专利 :CN111025865A ,2020-04-17

[8]

用于铜的电解沉积的水性酸浴 [P].

N·丹布罗斯基 ;

U·豪夫 ;

I·埃韦特 ;

C·丹布劳斯基 ;

R·文策尔 .

中国专利 :CN103547711B ,2014-01-29

[9]

季化合物的混合物 [P].

A·佩雷拉 ;

H·S·巴里诺瓦 .

中国专利 :CN1639311B ,2005-07-13

[10]

用于液晶混合物的萘化合物 [P].

C·贾斯珀 ;

S·甘斯特 ;

H·汉塞尔 ;

B·舒乐 .

中国专利 :CN108291148A ,2018-07-17

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