由呋喃二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010557388.0

申请日：

2020-06-18

公开(公告)号：

CN111777579A

公开(公告)日：

2020-10-16

发明(设计)人：

邵严亮傅志伟贺宝元潘新刚薛富奎汪进波

申请人：

申请人地址：

221327 江苏省徐州市邳州市经济开发区化工聚集区

IPC主分类号：

C07D30720

IPC分类号：

G03F7027 G03F7004

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-10-16	公开	公开
2021-01-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C07D 307/20 申请日:20200618

共 50 条

[1]

由甲基六氢化萘二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

潘新刚 ;

傅志伟 ;

贺宝元 ;

邵严亮 ;

毛国平 .

中国专利 :CN111763147A ,2020-10-13

[2]

由氧杂螺[4.5]癸烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

傅志伟 ;

贺宝元 ;

邵严亮 ;

毛国平 ;

余文清 ;

薛富奎 ;

刘司飞 .

中国专利 :CN111777587A ,2020-10-16

[3]

由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

潘新刚 ;

傅志伟 ;

贺宝元 ;

邵严亮 ;

毛国平 .

中国专利 :CN112390718A ,2021-02-23

[4]

由二甲基二环[3.3.1]壬烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

傅志伟 ;

贺宝元 ;

邵严亮 ;

毛国平 ;

余文清 ;

薛富奎 ;

刘司飞 .

中国专利 :CN111606806A ,2020-09-01

[5]

由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

傅志伟 ;

贺宝元 ;

邵严亮 ;

毛国平 ;

余文清 ;

薛富奎 ;

刘司飞 .

中国专利 :CN111777583A ,2020-10-16

[6]

由异丙基二甲基六氢化萘二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

邵严亮 ;

傅志伟 ;

贺宝元 ;

潘新刚 ;

薛富奎 ;

汪进波 .

中国专利 :CN111635314A ,2020-09-08

[7]

由螺[2.5]癸烷-6,8-二酮合成的光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

毕景峰 ;

李嫚嫚 ;

喻珍林 ;

郭颖 .

中国专利 :CN111072482A ,2020-04-28

[8]

由螺[5.5]十一烷-3,9-二酮合成的光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

李嫚嫚 ;

蒋小惠 ;

毕景峰 ;

郭颖 .

中国专利 :CN111056945A ,2020-04-24

[9]

一种光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

喻珍林 ;

蒋小惠 ;

李嫚嫚 ;

郭颖 .

中国专利 :CN111138281A ,2020-05-12

[10]

由六氢-1H-茚-1,3(2H)-二酮合成的光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

李嫚嫚 ;

喻珍林 ;

毕景峰 ;

郭颖 .

中国专利 :CN111138287A ,2020-05-12

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