用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02115421.X

申请日：

2002-01-11

公开(公告)号：

CN1362328A

公开(公告)日：

2002-08-07

发明(设计)人：

栾德海江畅陈德超褚峰林

申请人：

申请人地址：

432500湖北省云梦县城关梦泽大道41号

IPC主分类号：

B32B2732

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2002-08-07	公开	公开
2005-07-13	专利权的视为放弃	专利权的视为放弃
2002-05-15	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法 [P].

栾德海 ;

江畅 ;

陈德超 ;

褚峰林 .

中国专利 :CN1362329A ,2002-08-07

[2]

用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜 [P].

栾德海 ;

江畅 ;

陈德超 ;

褚峰林 .

中国专利 :CN2602928Y ,2004-02-11

[3]

真空镀铝镭射双向拉伸聚丙烯基膜及其制备方法 [P].

尹廷发 ;

郑昆 ;

宋丽娟 ;

张富 .

中国专利 :CN1948000A ,2007-04-18

[4]

用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜 [P].

栾德海 ;

江畅 ;

陈德超 ;

褚峰林 .

中国专利 :CN2535228Y ,2003-02-12

[5]

用于印刷的双向拉伸聚丙烯基膜 [P].

顾乐定 .

中国专利 :CN202163075U ,2012-03-14

[6]

用于皮革印刷转移的双向拉伸聚丙烯薄膜及其制造方法 [P].

陈利锋 .

中国专利 :CN101774290A ,2010-07-14

[7]

双向拉伸聚丙烯消声胶带基膜的制作方法 [P].

郭华山 ;

麦少华 ;

张进 .

中国专利 :CN101254644B ,2008-09-03

[8]

用于制袋的双向拉伸聚丙烯基膜 [P].

顾乐定 .

中国专利 :CN202138023U ,2012-02-08

[9]

用于文具胶带的双向拉伸聚丙烯基膜 [P].

顾乐定 .

中国专利 :CN202138027U ,2012-02-08

[10]

双向拉伸聚丙烯消声胶带基膜 [P].

郭华山 ;

麦少华 ;

张进 .

中国专利 :CN201198209Y ,2009-02-25

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