一种除去金属硅中的磷杂质的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110115885.6

申请日：

2011-05-06

公开(公告)号：

CN102145892A

公开(公告)日：

2011-08-10

发明(设计)人：

曹国喜蒋元力单继周贾金才丁建础张秀全王占修徐才华张建平

申请人：

申请人地址：

450000 河南省郑州市郑东新区CBD商务外环路6号国龙大厦

IPC主分类号：

C01B33037

IPC分类号：

代理机构：

郑州科维专利代理有限公司 41102

代理人：

马忠

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-02-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101179310263 IPC(主分类):C01B 33/037 专利申请号:2011101158856 申请日:20110506
2013-11-06	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101669855418 IPC(主分类):C01B 33/037 专利申请号:2011101158856 申请公布日:20110810
2011-08-10	公开	公开

共 50 条

[1]

一种去除金属硅中硼磷杂质的方法 [P].

刘立新 .

中国专利 :CN104843710B ,2015-08-19

[2]

一种去除金属硅中杂质磷和硼的方法 [P].

李伟生 ;

谢兴源 ;

杨凤炳 ;

龚炳生 .

中国专利 :CN104058405B ,2014-09-24

[3]

一种去除金属硅中硼杂质的方法 [P].

刘立新 .

中国专利 :CN104773736A ,2015-07-15

[4]

一种去除金属硅表面杂质的方法 [P].

李柏榆 ;

汪云华 ;

李海艳 ;

张济祥 ;

许金泉 ;

周金民 ;

王钟钰 ;

王春琴 ;

陈小番 ;

方来鹏 ;

付刚 .

中国专利 :CN102001663A ,2011-04-06

[5]

测定金属硅中磷含量的方法 [P].

梁文君 ;

雷心恒 ;

马智云 ;

保亚红 ;

王齐光 ;

朱红玉 ;

范云 ;

朱奎 .

中国专利 :CN1959382A ,2007-05-09

[6]

除去溶液中的金属杂质的金属除去剂及金属除去方法 [P].

谷口博昭 ;

窪寺俊 ;

孙军 .

中国专利 :CN111801158A ,2020-10-20

[7]

一种去除硅中杂质磷的方法 [P].

吴展平 .

中国专利 :CN102020278A ,2011-04-20

[8]

从金属硅中除去硼的方法和装置 [P].

中村尚道 ;

马场裕幸 ;

阿部正道 ;

汤下宪吉 ;

花泽和浩 ;

阪口泰彦 ;

加藤嘉英 ;

荒谷复夫 ;

斋藤健志 .

中国专利 :CN1105081C ,1998-10-28

[9]

一种低温脱除金属硅杂质的方法 [P].

刘振东 ;

刘笑笑 .

中国专利 :CN116161666B ,2024-10-01

[10]

一种采用冶金法降低金属硅中硼杂质含量的方法 [P].

张海霞 ;

车永军 ;

刘冬梅 .

中国专利 :CN102627394B ,2012-08-08

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