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光学系统以及光学设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201780097685.8
申请日
:
2017-12-15
公开(公告)号
:
CN111480103B
公开(公告)日
:
2020-07-31
发明(设计)人
:
山下雅史
伊藤智希
籔本洋
山本浩史
三轮哲史
坪野谷启介
槙田步
上原健
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
G02B1300
IPC分类号
:
G02B1302
G02B1304
G02B1520
代理机构
:
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
:
季莹;方应星
法律状态
:
公开
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-07-31
公开
公开
2020-08-25
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 13/00 申请日:20171215
2022-09-09
授权
授权
共 50 条
[1]
光学系统以及光学设备
[P].
栗林知宪
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栗林知宪
.
中国专利
:CN112136068B
,2020-12-25
[2]
光学系统以及光学设备
[P].
山下雅史
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山下雅史
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伊藤智希
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籔本洋
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三轮哲史
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上原健
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上原健
.
中国专利
:CN111465881B
,2020-07-28
[3]
光学系统以及光学设备
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山下雅史
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伊藤智希
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上原健
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,2022-08-05
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光学系统以及光学设备
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山下雅史
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上原健
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,2020-08-07
[5]
光学系统以及光学设备
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山下雅史
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,2025-06-17
[6]
光学系统以及光学设备
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栗林知宪
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栗林知宪
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光学系统及光学设备、以及变倍光学系统及光学设备
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槙田步
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日本专利
:CN114270239B
,2024-06-11
[8]
光学系统及光学设备、以及变倍光学系统及光学设备
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山下雅史
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株式会社尼康
渡边胜也
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槙田步
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株式会社尼康
槙田步
.
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:CN114270238B
,2024-06-18
[9]
光学系统以及光学设备
[P].
村谷真美
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村谷真美
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大竹史哲
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大竹史哲
.
中国专利
:CN111492287B
,2020-08-04
[10]
光学系统以及光学设备
[P].
坪野谷启介
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坪野谷启介
;
原田壮基
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原田壮基
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武俊典
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武俊典
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中国专利
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,2021-01-01
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