液滴喷出装置、电光学装置的制造方法以及电光学装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810145179.4

申请日：

2008-08-04

公开(公告)号：

CN101357541B

公开(公告)日：

2009-02-04

发明(设计)人：

楠本浩之

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

B41J2175

IPC分类号：

B41J204 G02B520 H05B3310

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

李贵亮

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-02-04	公开	公开
2016-09-28	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101680360014 IPC(主分类):B41J 2/175 专利号:ZL2008101451794 申请日:20080804 授权公告日:20120118 终止日期:20150804
2009-04-01	实质审查的生效	实质审查的生效
2012-01-18	授权	授权

共 50 条

[1]

液滴喷出装置的控制方法、液滴喷出装置、电光学装置的制造方法、电光学装置及电子机器 [P].

臼田秀范 ;

有贺和巳 .

中国专利 :CN1820952A ,2006-08-23

[2]

液滴喷出装置、液滴喷出方法、电光学装置及其制造方法 [P].

臼田秀范 .

中国专利 :CN1693084A ,2005-11-09

[3]

液滴喷射装置、电光学装置、电光学装置的制造方法 [P].

松本良一 ;

大草隆 ;

小岛健嗣 .

中国专利 :CN100343055C ,2005-11-16

[4]

液滴喷出装置、电光学装置的制造方法、电光学装置及电子设备 [P].

小岛健嗣 .

中国专利 :CN1762707A ,2006-04-26

[5]

液滴喷出装置、电光学装置的制造方法、电光学装置及电子设备 [P].

小岛健嗣 .

中国专利 :CN1762708A ,2006-04-26

[6]

功能液供给装置及液滴喷出装置、以及电光学装置的制造方法、电光学装置及电子设备 [P].

林高之 ;

浅野康彦 .

中国专利 :CN101274531B ,2008-10-01

[7]

功能液供给装置及液滴喷出装置、以及电光学装置的制造方法、电光学装置及电子设备 [P].

林高之 .

中国专利 :CN101274538A ,2008-10-01

[8]

液滴喷出装置及喷出方法、电光学装置及其制造方法 [P].

安永植 ;

村山嘉明 .

中国专利 :CN1785673A ,2006-06-14

[9]

吸引装置、吸引系统和包括它们的液滴喷出装置、以及电光学装置的制造方法及电光学装置 [P].

林千良 ;

井内千惠子 .

中国专利 :CN101396918A ,2009-04-01

[10]

液滴喷出装置、电光学装置及其制造方法、电子设备 [P].

小岛健嗣 .

中国专利 :CN101164781B ,2008-04-23

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