制造IC屏蔽镀膜的设备及IC的金属屏蔽膜层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110420265.3

申请日：

2011-12-15

公开(公告)号：

CN103132036A

公开(公告)日：

2013-06-05

发明(设计)人：

柳朝纶邱耀弘范淑惠

申请人：

申请人地址：

中国台湾台北市內湖区民权东路六段27号2楼

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1414 H05K900

代理机构：

深圳中一专利商标事务所 44237

代理人：

张全文

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-06-05	公开	公开
2015-09-09	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101720460735 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2011104202653 申请公布日:20130605
2013-08-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101512322741 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2011104202653 申请日:20111215

共 50 条

[1]

IC屏蔽膜层及其制程方法 [P].

郑全利 ;

张学祖 .

中国专利 :CN103228123A ,2013-07-31

[2]

电磁屏蔽膜的导电层及电磁屏蔽膜 [P].

闫勇 ;

韩得生 ;

林文宇 .

中国专利 :CN207070595U ,2018-03-02

[3]

红外屏蔽膜、红外屏蔽膜的制造方法及红外屏蔽体 [P].

高向保彦 .

中国专利 :CN103597382B ,2014-02-19

[4]

导电层、电磁屏蔽膜及电磁屏蔽膜的加工方法 [P].

闫勇 ;

韩得生 ;

林文宇 .

中国专利 :CN107333462B ,2017-11-07

[5]

金属层及电磁波屏蔽膜 [P].

上农宪治 .

日本专利 :CN115004873B ,2025-04-04

[6]

金属层及电磁波屏蔽膜 [P].

上农宪治 .

中国专利 :CN115004873A ,2022-09-02

[7]

制造气体屏蔽膜的方法以及所制造的气体屏蔽膜 [P].

伊藤滋英 .

中国专利 :CN102812074A ,2012-12-05

[8]

一种具有屏蔽效能的IC表面镀膜结构 [P].

徐威 .

中国专利 :CN213368479U ,2021-06-04

[9]

屏蔽膜、屏蔽印刷布线板及屏蔽印刷布线板的制造方法 [P].

岩井靖 ;

柳善治 .

中国专利 :CN103857268A ,2014-06-11

[10]

屏蔽膜、屏蔽膜的制备方法及线缆 [P].

杨天纬 .

中国专利 :CN112469260A ,2021-03-09

← 1 2 3 4 5 →