减小反射的层系统和用于制造减小反射的层系统的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110801790.3

申请日：

2021-07-15

公开(公告)号：

CN113946001A

公开(公告)日：

2022-01-18

发明(设计)人：

乌尔丽克·舒尔茨弗里德里希·瑞克尔特皮特·蒙策尔特安妮·格特纳南希·格拉茨克凯文·菲克赛尔

申请人：

申请人地址：

德国慕尼黑

IPC主分类号：

G02B1118

IPC分类号：

G02B1111 G02B112

代理机构：

北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413

代理人：

邬志岐;谢攀

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-18	公开	公开

共 50 条

[1]

用于制造减少反射的层系统的方法 [P].

U.舒尔茨 ;

P.蒙策特 ;

S.沃莱布 ;

F.里克尔特 ;

H.克诺普夫 .

中国专利 :CN110312949A ,2019-10-08

[2]

高反射层系统，用于制造该层系统的方法和用于实施该方法的设备 [P].

约尔格·法贝尔 ;

埃克哈特·赖因霍尔德 ;

卡斯滕·多伊斯 ;

汉斯-克里斯蒂安·黑希特 ;

大卫·舒伯特 ;

乌韦·克拉拉普 ;

亨德里克·胡梅尔 .

中国专利 :CN101379218B ,2009-03-04

[3]

多层系统和制造多层系统的方法 [P].

C·卡捷克 ;

M·布巴斯 ;

B·维尔金森 ;

E·S·艾普斯特恩 ;

崔维斌 ;

林仁和 .

中国专利 :CN113710481A ,2021-11-26

[4]

用于制造基片上的层系统的方法及层系统 [P].

J·皮斯特纳 ;

T·施莫德 ;

S·库珀 .

中国专利 :CN102165088A ,2011-08-24

[5]

抗反射多层系统 [P].

陈之谢 .

美国专利 :CN118647906A ,2024-09-13

[6]

透明基材的层系统以及用于制造层系统的方法 [P].

T.科罗耶 ;

W.格拉夫 ;

U.施赖贝尔 ;

G.格拉博世 ;

G.克莱德特 .

中国专利 :CN105745177A ,2016-07-06

[7]

用于制造多层系统的方法以及相应的多层系统 [P].

M.施密特 ;

M.多布 ;

J.鲁普 .

中国专利 :CN102328432B ,2012-01-25

[8]

具有抗反射特性的光学层系统 [P].

莫尼卡·库尔萨韦 ;

埃德加·贝姆 ;

徐方运 .

中国专利 :CN1580823A ,2005-02-16

[9]

制造光学层系统的方法以及利用该方法制造的光学层系统 [P].

B·贝格克 ;

R·利布施纳 ;

M·鲁丁 .

德国专利 :CN118786241A ,2024-10-15

[10]

用于墙壁的覆层系统、覆层系统的布置以及安装覆层系统的方法 [P].

文森特·斯波达 ;

阿明·埃马米 ;

亚萨尔·蒂克威斯 ;

克劳斯·韦茨施泰因 ;

托拜厄斯·卢德克 .

中国专利 :CN112912573A ,2021-06-04

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