涂布型绝缘膜形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580047073.9

申请日：

2015-08-25

公开(公告)号：

CN106605293A

公开(公告)日：

2017-04-26

发明(设计)人：

赤井泰之铃木阳二横尾健

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

H01L21312

IPC分类号：

代理机构：

北京坤瑞律师事务所 11494

代理人：

张平元

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-26	公开	公开
2021-05-07	授权	授权
2017-08-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101739958472 IPC(主分类):H01L 21/312 专利申请号:2015800470739 申请日:20150825

共 50 条

[1]

栅极绝缘膜形成用组合物 [P].

浦冈行治 ;

朱安保罗苏利亚·贝鲁姆多 ;

吉田尚史 ;

矢野惠 ;

能谷敦子 ;

野中敏章 .

中国专利 :CN114040948A ,2022-02-11

[2]

绝缘膜形成用聚合物、绝缘膜形成用组合物、绝缘膜及具有该绝缘膜的电子器件 [P].

佐野曜子 ;

藤田一义 ;

朝隈纯俊 .

中国专利 :CN101932618A ,2010-12-29

[3]

透明绝缘膜形成用组合物 [P].

野田国宏 ;

千坂博树 ;

盐田大 .

中国专利 :CN104102091B ,2014-10-15

[4]

绝缘膜形成用油墨组合物、由该油墨组合物形成的绝缘膜 [P].

高武正义 ;

饵取秀树 ;

海老根俊裕 ;

五十住宏 ;

笠井正纪 .

中国专利 :CN102057000B ,2011-05-11

[5]

层间绝缘膜制造用涂布组合物、层间绝缘膜、及半导体元件、以及层间绝缘膜的制造方法 [P].

伊部武史 ;

今田知之 .

日本专利 :CN115210853B ,2025-06-03

[6]

绝缘膜形成用组合物、绝缘膜、及具备绝缘膜的半导体器件 [P].

三宅弘人 ;

辻直子 ;

山川章 .

中国专利 :CN110650987A ,2020-01-03

[7]

绝缘膜形成用感光性树脂组合物、绝缘膜、以及绝缘膜的形成方法 [P].

大内康秀 ;

染谷和也 .

中国专利 :CN103365087B ,2013-10-23

[8]

透明涂膜形成用组合物 [P].

兼子达朗 .

中国专利 :CN111471397B ,2020-07-31

[9]

形成有机绝缘膜的组合物及用其形成有机绝缘膜图案的方法 [P].

慎重汉 ;

李泰雨 ;

具本原 ;

李芳璘 ;

李相润 .

中国专利 :CN1734350A ,2006-02-15

[10]

绝缘膜用树脂组合物 [P].

大桥拓矢 ;

饭沼洋介 ;

服部隼人 ;

臼井友辉 ;

泽田和宏 .

中国专利 :CN111566144A ,2020-08-21

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