一种含硅大分子可见光引发剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110927076.9

申请日：

2021-08-12

公开(公告)号：

CN113603890A

公开(公告)日：

2021-11-05

发明(设计)人：

管和平

申请人：

申请人地址：

212013 江苏省镇江市京口区学府路301号

IPC主分类号：

C08G77392

IPC分类号：

C08F248 C09D17514

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-05	公开	公开
2021-11-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 77/392 申请日:20210812

共 50 条

[1]

含硅大分子光引发剂及其制备方法 [P].

马贵平 ;

姜苹 ;

聂俊 .

中国专利 :CN102286113A ,2011-12-21

[2]

一种含硅大分子阳离子光引发剂及其制备方法 [P].

孙芳 ;

潘河 .

中国专利 :CN106146852A ,2016-11-23

[3]

一种新型含硅大分子光引发剂及其制备方法 [P].

张军营 ;

甘禄铜 .

中国专利 :CN102408500A ,2012-04-11

[4]

含氟大分子引发剂及其制造方法 [P].

斋藤智 ;

佐藤胜之 ;

园井竹比吕 .

中国专利 :CN105980416B ,2016-09-28

[5]

含疏水链段的大分子引发剂 [P].

R.塔米亚 ;

K.富士萨瓦 ;

中村正孝 .

中国专利 :CN103502317B ,2014-01-08

[6]

一种含硅大分子光引发剂、其合成方法及用途 [P].

何勇 ;

聂俊 .

中国专利 :CN101220106A ,2008-07-16

[7]

一种可见光引发剂体系及其应用 [P].

黄星 ;

赵榆霞 ;

施盟泉 ;

张玉玺 ;

张云龙 .

中国专利 :CN114907502A ,2022-08-16

[8]

一种可见光引发剂体系及其应用 [P].

黄星 ;

赵榆霞 ;

施盟泉 ;

张玉玺 ;

张云龙 .

中国专利 :CN114907502B ,2024-02-06

[9]

一种大分子光引发剂及其应用 [P].

桑伟 ;

刘永祥 ;

侯少堃 ;

孙涛 .

中国专利 :CN112920295A ,2021-06-08

[10]

一种大分子光引发剂及其应用 [P].

桑伟 ;

刘永祥 ;

侯少堃 ;

孙涛 .

中国专利 :CN112920295B ,2024-05-03

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