一种电解铜箔用电解槽

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201621273468.9

申请日：

2016-11-25

公开(公告)号：

CN206256178U

公开(公告)日：

2017-06-16

发明(设计)人：

李应恩董景伟樊斌锋王建智牛晶晶

申请人：

申请人地址：

472500 河南省三门峡市灵宝市黄河路131号

IPC主分类号：

C25D104

IPC分类号：

代理机构：

郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104

代理人：

时立新

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-06-16	授权	授权

共 50 条

[1]

一种电解铜箔用电解槽 [P].

宋豪杰 ;

廖中良 ;

熊佑文 ;

方彧 ;

张建彬 ;

冯志建 ;

岳双霞 ;

李军 ;

刘新建 .

中国专利 :CN211079374U ,2020-07-24

[2]

一种电解铜箔的电解槽 [P].

万大勇 ;

文孟平 ;

陈多锋 .

中国专利 :CN211142196U ,2020-07-31

[3]

一种新型电解铜箔的电解槽 [P].

廖跃元 ;

廖平元 ;

李鑫 .

中国专利 :CN221094319U ,2024-06-07

[4]

一种电解铜箔的电解槽 [P].

万新领 ;

高元亨 ;

罗志艺 ;

关灿球 ;

杨维坤 .

中国专利 :CN217052444U ,2022-07-26

[5]

一种组合式电解铜箔用高效电解槽 [P].

温丙台 ;

庄伟雄 ;

郭志航 ;

刘焕添 ;

王俊锋 ;

叶敬敏 ;

刘少华 ;

廖平元 .

中国专利 :CN207512273U ,2018-06-19

[6]

一种电解铜用电解槽 [P].

易淑芳 .

中国专利 :CN215976076U ,2022-03-08

[7]

电解铜箔电解槽的精度快速检测装置 [P].

陈优昌 ;

王崇华 ;

杨剑文 ;

张小玲 ;

林远钦 ;

杨雨平 ;

庄如珍 .

中国专利 :CN204198873U ,2015-03-11

[8]

具有双重电解槽的铜箔制备系统、电解铜箔及制备方法 [P].

全南旭 ;

李帅 ;

丛文华 ;

杨细平 ;

雷春梅 .

中国专利 :CN120291167B ,2025-09-12

[9]

具有双重电解槽的铜箔制备系统、电解铜箔及制备方法 [P].

全南旭 ;

李帅 ;

丛文华 ;

杨细平 ;

雷春梅 .

中国专利 :CN120291167A ,2025-07-11

[10]

一种电解铜箔用电镀槽装置 [P].

王鹏磊 .

中国专利 :CN205954134U ,2017-02-15

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