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曝光装置、曝光方法以及物品制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201710728228.6
申请日：
2017-08-23
公开(公告)号：
CN107783383B
公开(公告)日：
2018-03-09
发明(设计)人：
大野文靖
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人：
孙蕾
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2018-09-21 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170823 |
| 2018-03-09 | 公开 | 公开 |
| 2020-06-09 | 授权 | 授权 |