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用于进行场非对称波形离子迁移谱的装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010773783.2
申请日
:
2020-08-04
公开(公告)号
:
CN112530781A
公开(公告)日
:
2021-03-19
发明(设计)人
:
R·吉尔斯
R·安德热耶夫斯基
申请人
:
申请人地址
:
日本京都府
IPC主分类号
:
H01J4902
IPC分类号
:
H01J4906
H01J4916
G01N27624
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-03-19
公开
公开
2021-04-06
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 49/02 申请日:20200804
共 50 条
[1]
用于进行场非对称波形离子迁移谱的装置
[P].
R·吉尔斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
R·吉尔斯
;
R·安德热耶夫斯基
论文数:
0
引用数:
0
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0
R·安德热耶夫斯基
.
中国专利
:CN112530782A
,2021-03-19
[2]
用于进行场非对称波形离子迁移谱的装置
[P].
R·吉尔斯
论文数:
0
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0
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0
R·吉尔斯
;
R·安德热耶夫斯基
论文数:
0
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0
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R·安德热耶夫斯基
.
中国专利
:CN112530783A
,2021-03-19
[3]
用于进行场非对称波形离子迁移谱的装置
[P].
R·吉尔斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
R·吉尔斯
;
R·安德热耶夫斯基
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
R·安德热耶夫斯基
.
日本专利
:CN112530781B
,2025-01-17
[4]
用于进行场非对称波形离子迁移谱的装置
[P].
R·吉尔斯
论文数:
0
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0
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0
机构:
株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
R·吉尔斯
;
R·安德热耶夫斯基
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
R·安德热耶夫斯基
.
日本专利
:CN112530783B
,2024-12-13
[5]
非对称场离子迁移谱仪
[P].
曹士娉
论文数:
0
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0
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0
曹士娉
;
张清军
论文数:
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张清军
;
陈志强
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0
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陈志强
;
赵自然
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赵自然
;
李元景
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李元景
;
刘以农
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刘以农
;
董淑强
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0
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0
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董淑强
.
中国专利
:CN103187237B
,2013-07-03
[6]
非对称场离子迁移谱仪
[P].
曹士娉
论文数:
0
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0
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0
曹士娉
;
张清军
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0
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0
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0
张清军
;
陈志强
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0
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0
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陈志强
;
赵自然
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0
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赵自然
;
李元景
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李元景
;
刘以农
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刘以农
;
董淑强
论文数:
0
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0
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0
董淑强
.
中国专利
:CN202394834U
,2012-08-22
[7]
一种高场非对称波形离子迁移谱-离子阱质谱联用装置
[P].
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
王卫国
;
论文数:
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机构:
李海洋
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
李杭
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
花磊
.
中国专利
:CN119725066A
,2025-03-28
[8]
一种高场非对称波形离子迁移谱-离子阱质谱联用装置
[P].
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
王卫国
;
论文数:
引用数:
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机构:
李海洋
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
李杭
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
花磊
.
中国专利
:CN119725066B
,2025-10-24
[9]
一种高场非对称波形离子迁移谱仪
[P].
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
唐飞
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
曾悦
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
王晓浩
.
中国专利
:CN111933511B
,2024-11-05
[10]
一种高场非对称波形离子迁移谱仪
[P].
唐飞
论文数:
0
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0
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0
唐飞
;
曾悦
论文数:
0
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0
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0
曾悦
;
王晓浩
论文数:
0
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0
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0
王晓浩
.
中国专利
:CN111933511A
,2020-11-13
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