等离子体处理方法和等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110533635.8

申请日：

2021-05-17

公开(公告)号：

CN113745103A

公开(公告)日：

2021-12-03

发明(设计)人：

笹川大成熊仓翔

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

H01J3732

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-03	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 ;

冈信介 .

中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

金子和史 .

中国专利 :CN114302547A ,2022-04-08

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

里吉务 ;

佐藤亮 ;

佐佐木和男 ;

齐藤均 .

中国专利 :CN100543944C ,2005-11-09

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN113170568A ,2021-07-23

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

米泽亮太 ;

高桥哲朗 ;

大崎良规 ;

铃木公贵 ;

齐藤智博 ;

山下润 ;

佐藤吉宏 ;

盐泽俊彦 ;

山崎幸一 ;

古木和弘 .

中国专利 :CN102753727A ,2012-10-24

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

塚原利也 ;

山边周平 ;

谷地晃汰 ;

佐藤徹治 ;

内田阳平 ;

铃木步太 ;

田村洋典 ;

花冈秀敏 ;

佐佐木淳一 .

日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

田才忠 ;

野泽俊久 .

中国专利 :CN101347051B ,2009-01-14

[10]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

江藤隆纪 ;

泽田石真之 .

中国专利 :CN109390229A ,2019-02-26

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