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由硅制造掺杂半导体晶片的方法以及该半导体晶片
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200510091416.X
申请日
:
2005-08-10
公开(公告)号
:
CN100481331C
公开(公告)日
:
2007-02-14
发明(设计)人
:
鲁珀特·克劳特鲍尔
克里斯托夫·弗赖
西蒙·齐特泽尔斯伯格
洛塔尔·莱曼
申请人
:
申请人地址
:
德国慕尼黑
IPC主分类号
:
H01L2122
IPC分类号
:
H01L2124
C30B2906
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司
代理人
:
过晓东
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2007-02-14
公开
公开
2009-04-22
授权
授权
2007-04-11
实质审查的生效
实质审查的生效
共 50 条
[1]
半导体晶片以及制造该半导体晶片的方法
[P].
S·B·塔帕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
S·B·塔帕
;
赵明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
赵明
;
P·施托克
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
P·施托克
;
N·维尔纳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
N·维尔纳
.
中国专利
:CN105684125A
,2016-06-15
[2]
半导体基板、半导体晶片以及半导体晶片的制造方法
[P].
佐佐木公平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社田村制作所
株式会社田村制作所
佐佐木公平
;
林家弘
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社田村制作所
株式会社田村制作所
林家弘
.
日本专利
:CN117795654A
,2024-03-29
[3]
半导体晶片及由该半导体晶片形成的半导体器件
[P].
大角卓史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
大角卓史
.
中国专利
:CN100530631C
,2007-01-17
[4]
硅半导体晶片及制造多个半导体晶片的方法
[P].
吉多·文斯基
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
吉多·文斯基
;
托马斯·阿尔特曼
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
托马斯·阿尔特曼
;
安东·胡贝尔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
安东·胡贝尔
;
亚历山大·海尔迈尔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
亚历山大·海尔迈尔
.
中国专利
:CN1294629C
,2003-06-18
[5]
单晶硅的半导体晶片和制造半导体晶片的方法
[P].
A·扎特勒
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
A·扎特勒
;
A·福尔科普夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
A·福尔科普夫
;
K·曼格尔贝格尔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
K·曼格尔贝格尔
.
中国专利
:CN110998789A
,2020-04-10
[6]
半导体晶片的制造方法及半导体晶片
[P].
牧野亮平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
牧野亮平
;
熊田贵夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
熊田贵夫
;
江户雅晴
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
江户雅晴
;
高木启史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
高木启史
.
中国专利
:CN104064444A
,2014-09-24
[7]
半导体晶片及制造半导体晶片的方法
[P].
弗洛里安·施密特
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
弗洛里安·施密特
;
海默·舒切尔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
海默·舒切尔
;
迈克尔·齐恩曼
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
迈克尔·齐恩曼
.
中国专利
:CN102810517B
,2012-12-05
[8]
半导体晶片的制造方法和半导体晶片
[P].
金子忠昭
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
金子忠昭
;
大谷升
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
大谷升
;
牛尾昌史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
牛尾昌史
;
安达步
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
安达步
;
野上晓
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
野上晓
.
中国专利
:CN103857835A
,2014-06-11
[9]
半导体晶片的评价方法以及半导体晶片的制造方法
[P].
高桥亮辅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
胜高股份有限公司
胜高股份有限公司
高桥亮辅
.
日本专利
:CN119522479A
,2025-02-25
[10]
处理半导体晶片的方法、半导体晶片以及半导体器件
[P].
菲利普·雷诺
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
菲利普·雷诺
;
罗兰德·塞拉诺
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
罗兰德·塞拉诺
.
中国专利
:CN103109350A
,2013-05-15
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